EMD2000-44 / CPM2000-59 / OPE2000-56 / LQE2000-50 格子変調型フォトニック結晶導波路の解析と作製
スポンサーリンク
概要
- 論文の詳細を見る
我々はバイアススパッタリングにより基板表面の凹凸パターンを複製しながら多層膜を堆積する自己クローニング法を利用してフォトニック結晶を作製している。この技術に格子の間隔や方位を変調する「格子変調」の概念を取り入れることで、応用デバイスの範囲は格段に広がる。今回の報告では格子変調型フォトニック結晶導波路を提案し、その導波モードの近似解析結果及び作製について述べる。
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 2000-08-18
著者
-
玉村 敏昭
Ntt物性科学基礎研究所:nttエレクトロニクス
-
大寺 康夫
東北大学大学院工学研究科
-
玉村 敏昭
Ntt物性科学基礎研究所
-
小澤 章
Nttアドバンステクノロジ
-
大寺 康夫
東北大学 未来科学技術共同研究センター
-
川上 彰二郎
東北大学 未来科学技術共同研究センター
-
酒井 義剛
東北大学電気通信研究所
-
玉村 敏昭
NTT 物性科学基礎研究所
-
酒井 義剛
東北大学 電気通信研究所
-
小澤 章
NTTT アドバンステクノロジ
-
大寺 康夫
東北大学 大学院工学研究科
関連論文
- 自己クローニング型フォトニック結晶による波長選択フィルターを用いた近赤外イメージングの検討(光機能性有機材料・デバイス,光非線形現象,一般)
- 自己クローニング型フォトニック結晶による波長選択フィルターを用いた近赤外イメージングの検討(光機能性有機材料・デバイス,光非線形現象,一般)
- Si細線光導波路の曲がり損失の数値解析(光機能性有機材料・デバイス,光非線形現象,一般)
- SOI導波路基板上へのLDチップ実装方法に関する検討(光機能性有機材料・デバイス,光非線形現象,一般)
- 電子線露光技術を用いた電子波干渉トランジスタの作製とその評価
- 位置制御自己組織化成長法による三次元周期半導体構造
- 自己クローニング型フォトニック結晶の波長フィルターへの応用(光機能性有機材料・デバイス,光非線形現象,一般)
- 凹凸多層膜による可視・近赤外用波長フィルター(光・電子デバイス実装,デバイス技術,及び一般)
- C-3-73 吸光媒質可視化用フォトニック結晶型波長フィルターの検討(C-3.光エレクトロニクス,一般セッション)
- C-3-117 Si/SiO_2系フォトニック結晶偏光分離素子
- C-3-49 自己クローニング型フォトニック結晶による光アド・ドロップマルチプレクサ(フォトニック結晶)(C-3.光エレクトロニクス)
- 自己クローニング型フォトニック結晶光導波路の研究--次世代光通信応用にむけて
- C-3-84 液晶装荷による可変機能フォトニック結晶導波路の検討(C-3. 光エレクトロニクス(フォトニック結晶), エレクトロニクス1)
- C-3-80 フォトニック結晶アレイを用いた波長分割イメージングデバイス(C-3. 光エレクトロニクス(フォトニック結晶), エレクトロニクス1)
- C-1-20 変分表現とFDTD法の連携による周期構造の遮断特性の計算(C-1. 電磁界理論, エレクトロニクス1)
- 自己クローニング型フォトニック結晶導波路の低損失化(光エレクトロニクス)
- C-3-98 偏波制御用液晶回転波長板の作製(光受動部品)(C-3.光エレクトロニクス)
- C-3-50 自己クローニング型フォトニック結晶によるインライン型High-Q共振器(フォトニック結晶)(C-3.光エレクトロニクス)
- 3次元フォトニック結晶導波路の基準解析解とモードのスペクトル(光エレクトロニクス)
- C-3-47 フォトニック結晶における導波路モードと連続波との結合について
- C-3-46 ヘテロ構造フォトニック結晶導波路への Bragg 反射機能の付与
- SOI導波路基板上へのLDチップ実装方法に関する検討(光機能性有機材料・デバイス,光非線形現象,一般)
- C-4-9 Ta_2O_5/SiO_2 系3次元フォトニック結晶フィルタを用いた AWG の低クロストーク化
- TECファイバアレイー括集積形レンズフリー・アラインメントフリー光アイソレータ
- レンズフリー集積化技術を応用した光デバイス : 光アイソレータと光スイッチの新展開
- ファイバ集積型アイソレータの新構成方法の提案と試作
- ZnO非線形光学効果光導波路(光パッシブコンポーネント(フィルタ,コネクタ,MEMS),シリコンフォトニクス,光ファイバ,一般)
- 電子線露光技術を用いた電子波干渉トランジスタの作製とその評価
- SOI基板を用いた酸化物クラッド2次元フォトニック結晶
- SC-4-14 格子変調型フォトニック結晶の作製と波長選択フィルタへの応周
- SC-4-2 SiフォトニクスにむけたSi系フォトニック結晶
- Ta_2O_5/SiO_2系フォトニック結晶からなる青紫色波長用複屈折素子の作製とその特性
- EMD2000-45 / CPM2000-60 / OPE2000-57 / LQE2000-51 Ta_2O_5/SiO_2系フォトニック結晶からなる青紫色波長用複屈折素子の作製とその特性
- EMD2000-44 / CPM2000-59 / OPE2000-56 / LQE2000-50 格子変調型フォトニック結晶導波路の解析と作製
- EMD2000-45 / CPM2000-60 / OPE2000-57 / LQE2000-51 Ta_2O_5/SiO_2系フォトニック結晶からなる青紫色波長用複屈折素子の作製とその特性
- EMD2000-44 / CPM2000-59 / OPE2000-56 / LQE2000-50 格子変調型フォトニック結晶導波路の解析と作製
- EMD2000-45 / CPM2000-60 / OPE2000-57 / LQE2000-51 Ta_2O_5/SiO_2系フォトニック結晶からなる青紫色波長用複屈折素子の作製とその特性
- EMD2000-44 / CPM2000-59 / OPE2000-56 / LQE2000-50 格子変調型フォトニック結晶導波路の解析と作製
- EMD2000-45 / CPM2000-60 / OPE2000-57 / LQE2000-51 Ta_2O_5/SiO_2系フォトニック結晶からなる青紫色波長用複屈折素子の作製とその特性
- EMD2000-44 / CPM2000-59 / OPE2000-56 / LQE2000-50 格子変調型フォトニック結晶導波路の解析と作製
- 28a-ZE-6 フォトニック結晶中の異常光伝播 : セルフコリメーション
- C-3-113 フォトニック結晶のPLC応用へ向けて-μLC
- フォトニック結晶のPLC応用に向けて : スーパープリズム現象
- 28a-YE-1 3次元フォトニック結晶における異常屈折現象
- 凹凸多層膜による可視・近赤外用波長フィルター(光・電子デバイス実装,デバイス技術,及び一般)
- 凹凸多層膜による可視・近赤外用波長フィルター(光・電子デバイス実装,デバイス技術,及び一般)
- 凹凸多層膜による可視・近赤外用波長フィルター(光・電子デバイス実装,デバイス技術,及び一般)
- C-3-43 自己クローニング法により作製したコア平坦型フォトニック結晶導波路の低損失化
- C-3-42 フォトニック結晶偏波モニタの開発
- Siフォトニクスに向けたSi系フォトニック結晶材料
- C-3-34 フォトニックエレメントによる偏波制御機能の検討(フォトニック結晶,C-3.光エレクトロニクス,一般セッション)
- C-3-31 分光イメージング用フォトニック結晶型波長フィルター(フォトニック結晶,C-3.光エレクトロニクス,一般セッション)
- ヘテロ構造フォトニック結晶の導波型光デバイスへの応用
- フォトニック結晶 : 機能性人工光学材料
- 自己クローニングによるフォトニック結晶の作製とデバイス応用技術
- SC-4-11 自己クローニング型フォトニック結晶とその応用素子の現状
- 2次元フォトニック結晶偏光分離素子の高性能化
- 2次元フォトニック結晶偏光分離素子の作製とその高性能化
- 可視域透明材料からなるホトニック結晶の作製
- 可視域透明材料からなるホトニック結晶の作製
- 自己クローニングによる3次元フォトニック結晶の作製と応用
- 自己クローニングによる3次元フォトニック結晶の作製と応用
- Si/SiO_2系サブミクロン周期3Dフォトニック結晶の作製と観察
- 自己クローニングによる3Dフォトニック結晶のプロセス・導波技術
- Si/SiO_2系サブミクロン周期 3D フォトニック結晶の作製と観察
- フォトニック結晶型波長フィルターを用いた色素の濃度測定の検討(光パッシブコンポネント(フィルタ、コネクタ、MEMS),シリコンフォトニクス,光ファイバ,一般)
- Si細線光導波路の曲がり損失の数値解析(光機能性有機材料・デバイス,光非線形現象,一般)
- Si/SiO_2系フォトニック結晶導波路の導波解析
- C-3-66 Al_2O_3をコアに用いた可変光導波路の検討(C-3. 光エレクトロニクス(導波路デバイス2), エレクトロニクス1)
- 液晶を用いた可変波長フィルタ
- 自己クローニング型フォトニック結晶の波長フィルターへの応用(光機能性有機材料・デバイス,光非線形現象,一般)
- 変分表現式を利用したフォトニック結晶導波路の解析
- 変分表現式を利用したフォトニック結晶導波路の解析
- 変分表現式を利用したフォトニック結晶導波路の解析
- 変分表現式を利用したフォトニック結晶導波路の解析
- 変分表現式を利用したフォトニック結晶導波路の解析
- C-3-133 3 次元フォトニック結晶導波路の基準解析解について
- C-1-28 屈折率周期構造の固有周波数解析における変分表現の利用 : 定量評価
- C-3-79 環状配置したサブ波長格子からの共鳴反射(C-3.光エレクトロニクス,一般セッション)
- C-3-4 分光イメージング向け多層模型波長フィルター(C-3.光エレクトロニクス,一般セッション)
- フォトニックエレメントを用いた偏波制御機能の検討(光波センシング,光波制御・検出,光計測,ニューロ,一般)
- フォトニックエレメントを用いた偏波制御機能の検討(光波センシング,光波制御・検出,光計測,ニューロ,一般)
- ハイブリッド集積用の回路素子としてのTECファイバの諸特性
- 回転電界駆動による液晶偏光制御デバイス
- 格子変調型フォトニック結晶導波路の解析と作製
- C-3-26 ヘモグロビン分光イメージング計測用多層膜型フィルター(光計測・センシング(I),C-3.光エレクトロニクス,一般セッション)
- 2次元フォトニック結晶導波路の構造単純化モデルによる特性解析
- C-3-64 共鳴モード格子を用いた円形共振器の共振特性(導波路解析(II),C-3.光エレクトロニクス,一般セッション)
- フォトニック結晶における波動・電磁界の解析 (特集 フォトニック結晶)
- 自己クローニング法によるフォトニック結晶の作製と光学デバイスへの応用
- フォトニック結晶の作製と光デバイスへの応用
- 液晶回転波長板 (特集:液晶光学素子とその応用)
- フォトニック結晶とその応用光デバイス
- C-3-92 バス導波路を有する共鳴モード格子円形光共振器の解析(導波路解析,C-3.光エレクトロニクス,一般セッション)
- C-3-25 フォトニック結晶波長フィルターを用いた生体のマルチスペクトルイメージング(光計測,C-3.光エレクトロニクス,一般セッション)
- 液晶を用いた偏波制御
- C-3-74 散乱行列を用いたサブ波長共鳴格子の解析(C-3.光エレクトロニクス)
- C-3-39 共鳴導波型光ファイバの導波機構の解析(ファイバグレーティング,C-3.光エレクトロニクス,一般セッション)
- 共鳴導波型光ファイバの伝搬損失の解析(マイクロ波フォトニクス技術,一般)
- 共鳴導波型光ファイバの伝搬損失の解析(マイクロ波フォトニクス技術,一般)