C-3-49 自己クローニング型フォトニック結晶による光アド・ドロップマルチプレクサ(フォトニック結晶)(C-3.光エレクトロニクス)
スポンサーリンク
概要
- 論文の詳細を見る
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 2004-03-08
著者
-
川上 彰二郎
(株)フォトニックラティス
-
大寺 康夫
東北大学大学院工学研究科
-
五明 明子
日本電気
-
白根 昌之
Nec基礎・環境研究所
-
川上 彰二郎
東北大学未来科学技術共同研究センター
-
五明 明子
NEC基礎研
-
山田 博仁
NEC基礎研
-
三浦 健太
東北大学未来科学技術共同研究センター
-
大寺 康夫
東北大学未来科学技術共同研究センター
-
三浦 健太
群馬大学大学院工学研究科
-
五明 明子
MIRAI-Selete
-
川上 彰二郎
東北大通研
-
山田 博仁
東北大学大学院工学研究科
-
五明 明子
Nec基礎・環境研究所
関連論文
- 自己クローニング型フォトニック結晶による波長選択フィルターを用いた近赤外イメージングの検討(光機能性有機材料・デバイス,光非線形現象,一般)
- 自己クローニング型フォトニック結晶による波長選択フィルターを用いた近赤外イメージングの検討(光機能性有機材料・デバイス,光非線形現象,一般)
- Si細線光導波路の曲がり損失の数値解析(光機能性有機材料・デバイス,光非線形現象,一般)
- SOI導波路基板上へのLDチップ実装方法に関する検討(光機能性有機材料・デバイス,光非線形現象,一般)
- 2光束干渉露光法による大面積二次元周期構造を用いた多次元フォトニック結晶構造装荷InAlGaAs多重量子井戸構造の光励起発光特性(ナノ光技術・電子技術,次世代ナノテクノロジー論文)
- フォトニック結晶偏光子を用いた偏光イメージングカメラの開発(ナノ光技術・電子技術,次世代ナノテクノロジー論文)
- フォトニック結晶を用いた偏光イメージングセンサーと産業応用 (最近の偏光計測の動向)
- フォトニック結晶偏光素子と2次元偏光計測の応用(光・電子デバイス実装,デバイス技術,及び一般)
- 3D周期構造の技術開発とベンチャー起業
- パターン化偏光子を用いた偏光イメージングデバイスの開発と応用(システムLSIの応用と要素技術,専用プロセッサ,プロセッサ,DSP,画像処理技術,及び一般)
- フォトニック結晶素子と光情報の記録,撮像,表示への応用(光記録技術,一般)
- C-3-92 フォトニック結晶偏光子を集積した偏光イメージングカメラの開発(パッシブデバイス(2),C-3.光エレクトロニクス,一般講演)
- D-11-52 パターン化偏光子を用いた偏光イメージングデバイスと利用技術の開発(D-11.画像工学B(画像デバイス・装置),一般講演)
- C-3-75 フォトニック結晶アレイ応用デバイスの実用化動向(フォトニック結晶,C-3.光エレクトロニクス,一般講演)
- C-3-106 PMDマネージメント向け小型・高精度DOPモニタの開発(C-3. 光エレクトロニクス(分散補償), エレクトロニクス1)
- C-3-76 フォトニック結晶DOPモニタによるOSNR測定(フォトニック結晶,C-3.光エレクトロニクス,一般講演)
- C-3-112 小型・高精度フォトニック結晶偏波モニタ(C-3. 光エレクトロニクス, エレクトロニクス1)
- フォトニック結晶 : ナノテクノロジーが可能とした光波制御デバイスの可能性(映像情報メディアにおけるナノテクノロジー)
- SC-1-5 自己クローニングフォトニック結晶デバイス
- C-3-41 フォトニック結晶偏光子を用いた小型アイソレータの諸特性
- 自己クローニング型フォトニック結晶の波長フィルターへの応用(光機能性有機材料・デバイス,光非線形現象,一般)
- 自己クローニング型フォトニック結晶の波長フィルターへの応用
- 光産業の共通ツールとしてのフォトニック結晶
- C-3-48 広帯域可視光用フォトニック結晶偏光子(フォトニック結晶)(C-3.光エレクトロニクス)
- 凹凸多層膜による可視・近赤外用波長フィルター(光・電子デバイス実装,デバイス技術,及び一般)
- C-3-97 多層模型フォトニック結晶による波長フィルター(フォトニック結晶デバイス,C-3. 光エレクトロニクス,一般セッション)
- C-3-73 吸光媒質可視化用フォトニック結晶型波長フィルターの検討(C-3.光エレクトロニクス,一般セッション)
- C-3-72 フォトニック結晶偏光素子アレイと計測システムへの応用(C-3.光エレクトロニクス,一般セッション)
- パターン化偏光子を用いた偏光イメージングデバイスの開発と応用(システムLSIの応用と要素技術,専用プロセッサ,プロセッサ,DSP,画像処理技術,及び一般)
- パターン化偏光子を用いた偏光イメージングデバイスの開発と応用(システムLSIの応用と要素技術,専用プロセッサ,プロセッサ,DSP,画像処理技術,及び一般)
- パターン化偏光子を用いた偏光イメージングデバイスの開発と応用(システムLSIの応用と要素技術,専用プロセッサ,プロセッサ,DSP,画像処理技術,及び一般)
- C-3-117 Si/SiO_2系フォトニック結晶偏光分離素子
- フォトニック結晶偏光素子と2次元偏光計測の応用(光・電子デバイス実装,デバイス技術,及び一般)
- フォトニック結晶偏光素子と2次元偏光計測の応用(光・電子デバイス実装,デバイス技術,及び一般)
- フォトニック結晶偏光素子と2次元偏光計測の応用(光・電子デバイス実装,デバイス技術,及び一般)
- C-3-49 自己クローニング型フォトニック結晶による光アド・ドロップマルチプレクサ(フォトニック結晶)(C-3.光エレクトロニクス)
- 自己クローニング型フォトニック結晶光導波路の研究--次世代光通信応用にむけて
- C-3-84 液晶装荷による可変機能フォトニック結晶導波路の検討(C-3. 光エレクトロニクス(フォトニック結晶), エレクトロニクス1)
- C-3-80 フォトニック結晶アレイを用いた波長分割イメージングデバイス(C-3. 光エレクトロニクス(フォトニック結晶), エレクトロニクス1)
- C-3-79 フォトニック結晶アレイを用いた膜厚・屈折率アナライザ(C-3. 光エレクトロニクス(フォトニック結晶), エレクトロニクス1)
- C-1-20 変分表現とFDTD法の連携による周期構造の遮断特性の計算(C-1. 電磁界理論, エレクトロニクス1)
- 自己クローニング型フォトニック結晶導波路の低損失化(光エレクトロニクス)
- フォトニック結晶を用いた並列処理型エリプソメータ
- C-3-98 偏波制御用液晶回転波長板の作製(光受動部品)(C-3.光エレクトロニクス)
- C-3-98 偏波制御用液晶回転波長板の作製(光受動部品)(C-3.光エレクトロニクス)
- C-3-50 自己クローニング型フォトニック結晶によるインライン型High-Q共振器(フォトニック結晶)(C-3.光エレクトロニクス)
- 3次元フォトニック結晶導波路の基準解析解とモードのスペクトル(光エレクトロニクス)
- 3次元フォトニック結晶導波路の基準解析解とモードのスペクトル(光エレクトロニクス)
- C-3-47 フォトニック結晶における導波路モードと連続波との結合について
- C-3-46 ヘテロ構造フォトニック結晶導波路への Bragg 反射機能の付与
- C-3-46 ヘテロ構造フォトニック結晶導波路への Bragg 反射機能の付与
- フォトニック結晶を用いた偏光イメージングセンサーと産業応用
- SOI導波路基板上へのLDチップ実装方法に関する検討(光機能性有機材料・デバイス,光非線形現象,一般)
- C-4-9 Ta_2O_5/SiO_2 系3次元フォトニック結晶フィルタを用いた AWG の低クロストーク化
- ZnO非線形光学効果光導波路(光パッシブコンポーネント(フィルタ,コネクタ,MEMS),シリコンフォトニクス,光ファイバ,一般)
- SC-4-14 格子変調型フォトニック結晶の作製と波長選択フィルタへの応周
- Ta_2O_5/SiO_2系フォトニック結晶からなる青紫色波長用複屈折素子の作製とその特性
- EMD2000-45 / CPM2000-60 / OPE2000-57 / LQE2000-51 Ta_2O_5/SiO_2系フォトニック結晶からなる青紫色波長用複屈折素子の作製とその特性
- EMD2000-44 / CPM2000-59 / OPE2000-56 / LQE2000-50 格子変調型フォトニック結晶導波路の解析と作製
- EMD2000-45 / CPM2000-60 / OPE2000-57 / LQE2000-51 Ta_2O_5/SiO_2系フォトニック結晶からなる青紫色波長用複屈折素子の作製とその特性
- EMD2000-44 / CPM2000-59 / OPE2000-56 / LQE2000-50 格子変調型フォトニック結晶導波路の解析と作製
- EMD2000-45 / CPM2000-60 / OPE2000-57 / LQE2000-51 Ta_2O_5/SiO_2系フォトニック結晶からなる青紫色波長用複屈折素子の作製とその特性
- EMD2000-44 / CPM2000-59 / OPE2000-56 / LQE2000-50 格子変調型フォトニック結晶導波路の解析と作製
- EMD2000-45 / CPM2000-60 / OPE2000-57 / LQE2000-51 Ta_2O_5/SiO_2系フォトニック結晶からなる青紫色波長用複屈折素子の作製とその特性
- EMD2000-44 / CPM2000-59 / OPE2000-56 / LQE2000-50 格子変調型フォトニック結晶導波路の解析と作製
- 凹凸多層膜による可視・近赤外用波長フィルター(光・電子デバイス実装,デバイス技術,及び一般)
- 凹凸多層膜による可視・近赤外用波長フィルター(光・電子デバイス実装,デバイス技術,及び一般)
- 凹凸多層膜による可視・近赤外用波長フィルター(光・電子デバイス実装,デバイス技術,及び一般)
- C-3-43 自己クローニング法により作製したコア平坦型フォトニック結晶導波路の低損失化
- C-3-42 フォトニック結晶偏波モニタの開発
- C-3-34 フォトニックエレメントによる偏波制御機能の検討(フォトニック結晶,C-3.光エレクトロニクス,一般セッション)
- C-3-31 分光イメージング用フォトニック結晶型波長フィルター(フォトニック結晶,C-3.光エレクトロニクス,一般セッション)
- ヘテロ構造フォトニック結晶の導波型光デバイスへの応用
- フォトニック結晶 : 機能性人工光学材料
- 自己クローニングによるフォトニック結晶の作製とデバイス応用技術
- SC-4-11 自己クローニング型フォトニック結晶とその応用素子の現状
- 2次元フォトニック結晶偏光分離素子の高性能化
- 2次元フォトニック結晶偏光分離素子の作製とその高性能化
- 可視域透明材料からなるホトニック結晶の作製
- 可視域透明材料からなるホトニック結晶の作製
- 自己クローニングによる3次元フォトニック結晶の作製と応用
- 自己クローニングによる3次元フォトニック結晶の作製と応用
- Si/SiO_2系サブミクロン周期3Dフォトニック結晶の作製と観察
- 自己クローニングによる3Dフォトニック結晶のプロセス・導波技術
- フォトニック結晶型波長フィルターを用いた色素の濃度測定の検討(光パッシブコンポネント(フィルタ、コネクタ、MEMS),シリコンフォトニクス,光ファイバ,一般)
- Si細線光導波路の曲がり損失の数値解析(光機能性有機材料・デバイス,光非線形現象,一般)
- Si/SiO_2系フォトニック結晶導波路の導波解析
- C-3-66 Al_2O_3をコアに用いた可変光導波路の検討(C-3. 光エレクトロニクス(導波路デバイス2), エレクトロニクス1)
- 自己クローニング型フォトニック結晶の波長フィルターへの応用(光機能性有機材料・デバイス,光非線形現象,一般)
- 積層型フォトニック結晶の産業的諸応用
- "Photonic Crystal Everywhere"を目指して
- 変分表現式を利用したフォトニック結晶導波路の解析
- 変分表現式を利用したフォトニック結晶導波路の解析
- 変分表現式を利用したフォトニック結晶導波路の解析
- 変分表現式を利用したフォトニック結晶導波路の解析
- 変分表現式を利用したフォトニック結晶導波路の解析
- C-3-133 3 次元フォトニック結晶導波路の基準解析解について
- C-1-28 屈折率周期構造の固有周波数解析における変分表現の利用 : 定量評価
- C-3-79 環状配置したサブ波長格子からの共鳴反射(C-3.光エレクトロニクス,一般セッション)
- C-3-4 分光イメージング向け多層模型波長フィルター(C-3.光エレクトロニクス,一般セッション)