フォトニック結晶を用いた並列処理型エリプソメータ
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概要
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フォトニック結晶による偏光子と波長板のアレーを用いた並列処理型エリプソメータを提案し,試作した.入射偏光に対応する強度分布パターンをCCD受光し,基本動作を確認した.SiO_2薄膜からの反射光の偏光解析を行い,膜厚に対応した変化を観測しエリプソメータとしての基本動作の実証に成功した.
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 2004-11-01
著者
-
川上 彰二郎
(株)フォトニックラティス
-
佐藤 尚
(株)フォトニックラティス
-
橋本 直樹
Jst研究成果活用プラザ宮城
-
佐々木 良裕
東北大学大学院工学研究科
-
川上 彰二郎
東北大学大学院工学研究科
-
川上 彰二郎
東北大通研
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