フォトニック結晶の産業化へのチャレンジ (特集 フォトニック結晶)

スポンサーリンク

概要

• 論文の詳細を見る
• 日本オプトメカトロニクス協会の論文

著者

• 川嶋 貴之

  (株)フォトニックラティス

• 川上 彰二郎

  東北大通研

関連論文

• フォトニック結晶を用いた偏光イメージング技術と応用 (特集 ファンクショナル・イメージングデバイス)
• 2光束干渉露光法による大面積二次元周期構造を用いた多次元フォトニック結晶構造装荷InAlGaAs多重量子井戸構造の光励起発光特性(ナノ光技術・電子技術,次世代ナノテクノロジー論文)
• フォトニック結晶偏光子を用いた偏光イメージングカメラの開発(ナノ光技術・電子技術,次世代ナノテクノロジー論文)
• フォトニック結晶を用いた偏光イメージングセンサーと産業応用 (最近の偏光計測の動向)
• フォトニック結晶を用いた偏光計測デバイスへの応用
• フォトニック結晶偏光素子と2次元偏光計測の応用(光・電子デバイス実装,デバイス技術,及び一般)
• フォトニック結晶の偏光計測への応用(微細構造による光機能性界面の創出)
• 3D周期構造の技術開発とベンチャー起業
• パターン化偏光子を用いた偏光イメージングデバイスの開発と応用(システムLSIの応用と要素技術,専用プロセッサ,プロセッサ,DSP,画像処理技術,及び一般)
• フォトニック結晶素子と光情報の記録,撮像,表示への応用(光記録技術,一般)
• C-3-92 フォトニック結晶偏光子を集積した偏光イメージングカメラの開発(パッシブデバイス(2),C-3.光エレクトロニクス,一般講演)
• D-11-52 パターン化偏光子を用いた偏光イメージングデバイスと利用技術の開発(D-11.画像工学B(画像デバイス・装置),一般講演)
• C-3-75 フォトニック結晶アレイ応用デバイスの実用化動向(フォトニック結晶,C-3.光エレクトロニクス,一般講演)
• C-3-106 PMDマネージメント向け小型・高精度DOPモニタの開発(C-3. 光エレクトロニクス(分散補償), エレクトロニクス1)
• C-3-76 フォトニック結晶DOPモニタによるOSNR測定(フォトニック結晶,C-3.光エレクトロニクス,一般講演)
• C-3-112 小型・高精度フォトニック結晶偏波モニタ(C-3. 光エレクトロニクス, エレクトロニクス1)
• フォトニック結晶 : ナノテクノロジーが可能とした光波制御デバイスの可能性(映像情報メディアにおけるナノテクノロジー)
• SC-1-5 自己クローニングフォトニック結晶デバイス
• C-3-41 フォトニック結晶偏光子を用いた小型アイソレータの諸特性
• 自己クローニング型フォトニック結晶の波長フィルターへの応用(光機能性有機材料・デバイス,光非線形現象,一般)
• 光産業の共通ツールとしてのフォトニック結晶
• C-3-48 広帯域可視光用フォトニック結晶偏光子(フォトニック結晶)(C-3.光エレクトロニクス)
• 凹凸多層膜による可視・近赤外用波長フィルター(光・電子デバイス実装,デバイス技術,及び一般)
• C-3-97 多層模型フォトニック結晶による波長フィルター(フォトニック結晶デバイス,C-3. 光エレクトロニクス,一般セッション)
• フォトニック結晶 (特集 ナノエレクトロデバイスの課題と可能性)
• C-3-72 フォトニック結晶偏光素子アレイと計測システムへの応用(C-3.光エレクトロニクス,一般セッション)
• パターン化偏光子を用いた偏光イメージングデバイスの開発と応用(システムLSIの応用と要素技術,専用プロセッサ,プロセッサ,DSP,画像処理技術,及び一般)
• パターン化偏光子を用いた偏光イメージングデバイスの開発と応用(システムLSIの応用と要素技術,専用プロセッサ,プロセッサ,DSP,画像処理技術,及び一般)
• パターン化偏光子を用いた偏光イメージングデバイスの開発と応用(システムLSIの応用と要素技術,専用プロセッサ,プロセッサ,DSP,画像処理技術,及び一般)
• C-4-10 2次元フォトニック結晶偏光分離素子を用いた光アイソレータの作製と評価
• フォトニック結晶偏光素子と2次元偏光計測の応用(光・電子デバイス実装,デバイス技術,及び一般)
• フォトニック結晶偏光素子と2次元偏光計測の応用(光・電子デバイス実装,デバイス技術,及び一般)
• フォトニック結晶偏光素子と2次元偏光計測の応用(光・電子デバイス実装,デバイス技術,及び一般)
• C-3-49 自己クローニング型フォトニック結晶による光アド・ドロップマルチプレクサ(フォトニック結晶)(C-3.光エレクトロニクス)
• 自己クローニング型フォトニック結晶光導波路の研究--次世代光通信応用にむけて
• C-3-84 液晶装荷による可変機能フォトニック結晶導波路の検討(C-3. 光エレクトロニクス(フォトニック結晶), エレクトロニクス1)
• C-3-80 フォトニック結晶アレイを用いた波長分割イメージングデバイス(C-3. 光エレクトロニクス(フォトニック結晶), エレクトロニクス1)
• C-3-79 フォトニック結晶アレイを用いた膜厚・屈折率アナライザ(C-3. 光エレクトロニクス(フォトニック結晶), エレクトロニクス1)
• C-1-20 変分表現とFDTD法の連携による周期構造の遮断特性の計算(C-1. 電磁界理論, エレクトロニクス1)
• 自己クローニング型フォトニック結晶導波路の低損失化(光エレクトロニクス)
• フォトニック結晶を用いた並列処理型エリプソメータ
• C-3-98 偏波制御用液晶回転波長板の作製(光受動部品)(C-3.光エレクトロニクス)
• C-3-50 自己クローニング型フォトニック結晶によるインライン型High-Q共振器(フォトニック結晶)(C-3.光エレクトロニクス)
• 3次元フォトニック結晶導波路の基準解析解とモードのスペクトル(光エレクトロニクス)
• C-3-47 フォトニック結晶における導波路モードと連続波との結合について
• C-3-46 ヘテロ構造フォトニック結晶導波路への Bragg 反射機能の付与
• フォトニック結晶を用いた偏光イメージングセンサーと産業応用
• C-4-9 Ta_2O_5/SiO_2 系3次元フォトニック結晶フィルタを用いた AWG の低クロストーク化
• C-4-11 フォトニック結晶偏光分離素子を用いた偏光カプラの作製と評価
• 29p-E-5 フォトニック結晶の異方性分散応用 : レンズ・コリメータ現象
• 28a-ZE-6 フォトニック結晶中の異常光伝播 : セルフコリメーション
• C-3-113 フォトニック結晶のPLC応用へ向けて-μLC
• フォトニック結晶のPLC応用に向けて : スーパープリズム現象
• 28a-YE-1 3次元フォトニック結晶における異常屈折現象
• 凹凸多層膜による可視・近赤外用波長フィルター(光・電子デバイス実装,デバイス技術,及び一般)
• 凹凸多層膜による可視・近赤外用波長フィルター(光・電子デバイス実装,デバイス技術,及び一般)
• 凹凸多層膜による可視・近赤外用波長フィルター(光・電子デバイス実装,デバイス技術,及び一般)
• C-3-43 自己クローニング法により作製したコア平坦型フォトニック結晶導波路の低損失化
• C-3-96 波長 400nm 用フォトニック結晶偏光子の設計と作製
• Siフォトニクスに向けたSi系フォトニック結晶材料
• ヘテロ構造フォトニック結晶の導波型光デバイスへの応用
• フォトニック結晶 : 機能性人工光学材料
• 自己クローニングフォトニック結晶の面内伝搬応用
• 光ファイバ研究の昔と今
• 自己クローニング型フォトニック結晶の波長フィルターへの応用(光機能性有機材料・デバイス,光非線形現象,一般)
• 変分表現式を利用したフォトニック結晶導波路の解析
• 変分表現式を利用したフォトニック結晶導波路の解析
• C-3-133 3 次元フォトニック結晶導波路の基準解析解について
• C-1-28 屈折率周期構造の固有周波数解析における変分表現の利用 : 定量評価
• ファイバー集積型光アイソレーター
• フォトニック結晶における波動・電磁界の解析 (特集 フォトニック結晶)
• 自己クローニング法によるフォトニック結晶の作製と光学デバイスへの応用
• フォトニック結晶部品の産業化への戦略 (特集 フォトニック結晶)
• フォトニック結晶の産業化へのチャレンジ (特集 フォトニック結晶)
• C-1-12 フォトニック結晶の共振器および導波路における新規現象
• 解析解をもつフォトニック結晶構造とその電磁界
• C-3-23 多層膜フォトニック結晶の多並列光学フィルタへの応用(光センシング(1),C-3.光エレクトロニクス,一般セッション)

もっと見る 閉じる

スポンサーリンク