フォトニック結晶を用いた偏光イメージング技術と応用 (特集 ファンクショナル・イメージングデバイス)
スポンサーリンク
概要
著者
関連論文
-
フォトニック結晶を用いた偏光イメージング技術と応用 (特集 ファンクショナル・イメージングデバイス)
-
2光束干渉露光法による大面積二次元周期構造を用いた多次元フォトニック結晶構造装荷InAlGaAs多重量子井戸構造の光励起発光特性(ナノ光技術・電子技術,次世代ナノテクノロジー論文)
-
フォトニック結晶偏光子を用いた偏光イメージングカメラの開発(ナノ光技術・電子技術,次世代ナノテクノロジー論文)
-
フォトニック結晶を用いた偏光イメージングセンサーと産業応用 (最近の偏光計測の動向)
-
フォトニック結晶を用いた偏光計測デバイスへの応用
-
フォトニック結晶偏光素子と2次元偏光計測の応用(光・電子デバイス実装,デバイス技術,及び一般)
-
フォトニック結晶の偏光計測への応用(微細構造による光機能性界面の創出)
-
3D周期構造の技術開発とベンチャー起業
-
パターン化偏光子を用いた偏光イメージングデバイスの開発と応用(システムLSIの応用と要素技術,専用プロセッサ,プロセッサ,DSP,画像処理技術,及び一般)
-
フォトニック結晶素子と光情報の記録,撮像,表示への応用(光記録技術,一般)
-
C-3-92 フォトニック結晶偏光子を集積した偏光イメージングカメラの開発(パッシブデバイス(2),C-3.光エレクトロニクス,一般講演)
-
D-11-52 パターン化偏光子を用いた偏光イメージングデバイスと利用技術の開発(D-11.画像工学B(画像デバイス・装置),一般講演)
-
C-3-75 フォトニック結晶アレイ応用デバイスの実用化動向(フォトニック結晶,C-3.光エレクトロニクス,一般講演)
-
C-3-106 PMDマネージメント向け小型・高精度DOPモニタの開発(C-3. 光エレクトロニクス(分散補償), エレクトロニクス1)
-
C-3-112 小型・高精度フォトニック結晶偏波モニタ(C-3. 光エレクトロニクス, エレクトロニクス1)
-
フォトニック結晶 : ナノテクノロジーが可能とした光波制御デバイスの可能性(映像情報メディアにおけるナノテクノロジー)
-
SC-1-5 自己クローニングフォトニック結晶デバイス
-
C-3-41 フォトニック結晶偏光子を用いた小型アイソレータの諸特性
-
自己クローニング型フォトニック結晶の波長フィルターへの応用(光機能性有機材料・デバイス,光非線形現象,一般)
-
自己クローニング型フォトニック結晶の波長フィルターへの応用
-
光産業の共通ツールとしてのフォトニック結晶
-
C-3-48 広帯域可視光用フォトニック結晶偏光子(フォトニック結晶)(C-3.光エレクトロニクス)
-
凹凸多層膜による可視・近赤外用波長フィルター(光・電子デバイス実装,デバイス技術,及び一般)
-
C-3-97 多層模型フォトニック結晶による波長フィルター(フォトニック結晶デバイス,C-3. 光エレクトロニクス,一般セッション)
-
C-3-72 フォトニック結晶偏光素子アレイと計測システムへの応用(C-3.光エレクトロニクス,一般セッション)
-
パターン化偏光子を用いた偏光イメージングデバイスの開発と応用(システムLSIの応用と要素技術,専用プロセッサ,プロセッサ,DSP,画像処理技術,及び一般)
-
パターン化偏光子を用いた偏光イメージングデバイスの開発と応用(システムLSIの応用と要素技術,専用プロセッサ,プロセッサ,DSP,画像処理技術,及び一般)
-
パターン化偏光子を用いた偏光イメージングデバイスの開発と応用(システムLSIの応用と要素技術,専用プロセッサ,プロセッサ,DSP,画像処理技術,及び一般)
-
C-4-10 2次元フォトニック結晶偏光分離素子を用いた光アイソレータの作製と評価
-
C-3-117 Si/SiO_2系フォトニック結晶偏光分離素子
-
フォトニック結晶偏光素子と2次元偏光計測の応用(光・電子デバイス実装,デバイス技術,及び一般)
-
フォトニック結晶偏光素子と2次元偏光計測の応用(光・電子デバイス実装,デバイス技術,及び一般)
-
フォトニック結晶偏光素子と2次元偏光計測の応用(光・電子デバイス実装,デバイス技術,及び一般)
-
C-1-20 変分表現とFDTD法の連携による周期構造の遮断特性の計算(C-1. 電磁界理論, エレクトロニクス1)
-
自己クローニング型フォトニック結晶導波路の低損失化(光エレクトロニクス)
-
フォトニック結晶を用いた並列処理型エリプソメータ
-
フォトニック結晶を用いた偏光イメージングセンサーと産業応用
-
C-4-11 フォトニック結晶偏光分離素子を用いた偏光カプラの作製と評価
-
ファイバ集積型アイソレータの高性能化の一方法
-
積層形偏光分離素子を用いた偏波無依存ファイバ集積型アイソレータの作製
-
積層形偏光分離素子を用いた偏波無依存ファイバ集積型アイソレータ
-
EMD2000-45 / CPM2000-60 / OPE2000-57 / LQE2000-51 Ta_2O_5/SiO_2系フォトニック結晶からなる青紫色波長用複屈折素子の作製とその特性
-
EMD2000-45 / CPM2000-60 / OPE2000-57 / LQE2000-51 Ta_2O_5/SiO_2系フォトニック結晶からなる青紫色波長用複屈折素子の作製とその特性
-
EMD2000-45 / CPM2000-60 / OPE2000-57 / LQE2000-51 Ta_2O_5/SiO_2系フォトニック結晶からなる青紫色波長用複屈折素子の作製とその特性
-
凹凸多層膜による可視・近赤外用波長フィルター(光・電子デバイス実装,デバイス技術,及び一般)
-
凹凸多層膜による可視・近赤外用波長フィルター(光・電子デバイス実装,デバイス技術,及び一般)
-
凹凸多層膜による可視・近赤外用波長フィルター(光・電子デバイス実装,デバイス技術,及び一般)
-
Siフォトニクスに向けたSi系フォトニック結晶材料
-
ヘテロ構造フォトニック結晶の導波型光デバイスへの応用
-
フォトニック結晶 : 機能性人工光学材料
-
フォトニック結晶の自己クローニング法による作製技術(フォトニック結晶)
-
自己クローニングによるフォトニック結晶の作製とデバイス応用技術
-
SC-4-11 自己クローニング型フォトニック結晶とその応用素子の現状
-
CLEO/QELS 2000報告
-
2次元フォトニック結晶偏光分離素子の高性能化
-
2次元フォトニック結晶偏光分離素子の作製とその高性能化
-
可視光域フォトニック結晶の作製と複屈折素子への応用
-
可視域透明材料からなるホトニック結晶の作製
-
可視域透明材料からなるホトニック結晶の作製
-
C-3-8 可視光域透明材料からなるフォトニック結晶の作製
-
自己クローニングによる3次元フォトニック結晶の作製と応用
-
自己クローニングによる3次元フォトニック結晶の作製と応用
-
Si/SiO_2系サブミクロン周期3Dフォトニック結晶の作製と観察
-
積層形偏光分離素子の平面光導波路型アイソレータへの応用
-
自己クローニングによる3Dフォトニック結晶のプロセス・導波技術
-
積層形偏光分離素子の平面光導波路型アイソレータへの応用
-
積層形偏光分離素子の平面光導波路型アイソレータへの応用
-
積層形偏光分離素子の平面光導波路型アイソレータへの応用
-
積層形偏光分離素子の平面光導波路型アイソレータへの応用
-
バイアス・スパッタリング法によるサブミクロン3D周期構造作製のメカニズム
-
大口径TECファイバによる高性能な無調整ファイバ集積型光アイソレータの作製
-
波長1.55μm用積層形偏光分離素子の2次元光回路へのハイブリッド集積
-
積層形偏光分離素子の2次元光回路へのハイブリッド集積
-
積層形偏光分離素子の2次元光回路へのハイブリッド集積
-
Si/SiO_2系サブミクロン3次元フォトニック結晶の作製、評価と伝搬特性の解析
-
Si/SiO_2系サブミクロン3次元フォトニック結晶の作製、評価と伝搬特性の解析
-
Si/SiO_2系サブミクロン3次元フォトニック結晶の作製、評価と伝搬特性の解析
-
Si/SiO_2系サブミクロン3次元フォトニック結晶の作製、評価と伝搬特性の解析
-
Si/SiO_23次元サブミクロン周期構造 : 作製と応用について
-
Si/SiO_23次元サブミクロン周期構造 : 作製と応用について
-
Si/SiO_2系サブミクロン周期3Dフォトニック結晶の作製と観察
-
Si/SiO_2系サブミクロン周期3Dフォトニック結晶の作製と観察
-
ファイバアレー集積化光アイソレータの高性能化
-
ファイバアレー集積化光アイソレータの高性能化
-
ファイバアレイ集積形光アイソレータの高性能化
-
TECファイバアレイにレンズフリー・アラインメントフリー : 一括集積した光アイソレータ
-
a-Si:H/SiO_x:Hからなる積層形偏光分離素子の作製
-
1.55μm帯および1.3μm帯用積層形偏光分離素子の作製
-
積層型偏光分離素子の低損失化
-
自己クローニング型フォトニック結晶の波長フィルターへの応用(光機能性有機材料・デバイス,光非線形現象,一般)
-
卓上型の専用線加入者装置の開発
-
C-1-28 屈折率周期構造の固有周波数解析における変分表現の利用 : 定量評価
-
自己クローニング法によるフォトニック結晶の作製と光学デバイスへの応用
-
フォトニック結晶部品の産業化への戦略 (特集 フォトニック結晶)
-
フォトニック結晶の産業化へのチャレンジ (特集 フォトニック結晶)
-
C-3-23 多層膜フォトニック結晶の多並列光学フィルタへの応用(光センシング(1),C-3.光エレクトロニクス,一般セッション)
もっと見る
閉じる
スポンサーリンク