フォトニック結晶の自己クローニング法による作製技術(<小特集>フォトニック結晶)
スポンサーリンク
概要
- 論文の詳細を見る
Autocloning is a reliable fabrication method for photonic crystals, which is based on stacking multilayers by sputter deposition and shaping by sputter etching. For we increase the freedom of the shaping process for unit cells ofthe autocloned photonic crystals, we have developed a new fabrication process by introducing reactive ion etching into autocloning. Utilizing the new process, we can fabricate a non layer-by-layer structure unlike usual autocloned structures. The new process leads to the development of new structures and new possibilities of autocloning. In this paper, we report the details of the process, the new structures, and its applications.
- 2001-03-26
著者
関連論文
- フォトニック結晶を用いた偏光イメージング技術と応用 (特集 ファンクショナル・イメージングデバイス)
- 2光束干渉露光法による大面積二次元周期構造を用いた多次元フォトニック結晶構造装荷InAlGaAs多重量子井戸構造の光励起発光特性(ナノ光技術・電子技術,次世代ナノテクノロジー論文)
- フォトニック結晶偏光子を用いた偏光イメージングカメラの開発(ナノ光技術・電子技術,次世代ナノテクノロジー論文)
- フォトニック結晶を用いた偏光計測デバイスへの応用
- フォトニック結晶偏光素子と2次元偏光計測の応用(光・電子デバイス実装,デバイス技術,及び一般)
- フォトニック結晶の偏光計測への応用(微細構造による光機能性界面の創出)
- 3D周期構造の技術開発とベンチャー起業
- パターン化偏光子を用いた偏光イメージングデバイスの開発と応用(システムLSIの応用と要素技術,専用プロセッサ,プロセッサ,DSP,画像処理技術,及び一般)
- フォトニック結晶素子と光情報の記録,撮像,表示への応用(光記録技術,一般)
- C-3-92 フォトニック結晶偏光子を集積した偏光イメージングカメラの開発(パッシブデバイス(2),C-3.光エレクトロニクス,一般講演)
- D-11-52 パターン化偏光子を用いた偏光イメージングデバイスと利用技術の開発(D-11.画像工学B(画像デバイス・装置),一般講演)
- C-3-75 フォトニック結晶アレイ応用デバイスの実用化動向(フォトニック結晶,C-3.光エレクトロニクス,一般講演)
- 光産業の共通ツールとしてのフォトニック結晶
- C-3-10 移動回折格子によるヘテロダイン方式フーリエ変換赤外分光法
- C-3-72 フォトニック結晶偏光素子アレイと計測システムへの応用(C-3.光エレクトロニクス,一般セッション)
- パターン化偏光子を用いた偏光イメージングデバイスの開発と応用(システムLSIの応用と要素技術,専用プロセッサ,プロセッサ,DSP,画像処理技術,及び一般)
- パターン化偏光子を用いた偏光イメージングデバイスの開発と応用(システムLSIの応用と要素技術,専用プロセッサ,プロセッサ,DSP,画像処理技術,及び一般)
- パターン化偏光子を用いた偏光イメージングデバイスの開発と応用(システムLSIの応用と要素技術,専用プロセッサ,プロセッサ,DSP,画像処理技術,及び一般)
- C-4-10 2次元フォトニック結晶偏光分離素子を用いた光アイソレータの作製と評価
- C-3-117 Si/SiO_2系フォトニック結晶偏光分離素子
- フォトニック結晶偏光素子と2次元偏光計測の応用(光・電子デバイス実装,デバイス技術,及び一般)
- フォトニック結晶偏光素子と2次元偏光計測の応用(光・電子デバイス実装,デバイス技術,及び一般)
- フォトニック結晶偏光素子と2次元偏光計測の応用(光・電子デバイス実装,デバイス技術,及び一般)
- C-2-76 2 種類の誘電体によるフォトニック結晶共振器の数値解析
- 光は直進するか?
- 国語力について考える : ものを生み出し, 作り出す道具として
- 解析解をもつフォトニック結晶構造とその電磁界
- C-3-49 自己クローニング型フォトニック結晶による光アド・ドロップマルチプレクサ(フォトニック結晶)(C-3.光エレクトロニクス)
- 自己クローニング型フォトニック結晶導波路の低損失化(光エレクトロニクス)
- C-3-98 偏波制御用液晶回転波長板の作製(光受動部品)(C-3.光エレクトロニクス)
- C-3-98 偏波制御用液晶回転波長板の作製(光受動部品)(C-3.光エレクトロニクス)
- C-3-50 自己クローニング型フォトニック結晶によるインライン型High-Q共振器(フォトニック結晶)(C-3.光エレクトロニクス)
- 3次元フォトニック結晶導波路の基準解析解とモードのスペクトル(光エレクトロニクス)
- 3次元フォトニック結晶導波路の基準解析解とモードのスペクトル(光エレクトロニクス)
- C-3-47 フォトニック結晶における導波路モードと連続波との結合について
- C-3-46 ヘテロ構造フォトニック結晶導波路への Bragg 反射機能の付与
- C-3-46 ヘテロ構造フォトニック結晶導波路への Bragg 反射機能の付与
- フォトニック結晶を用いた偏光イメージングセンサーと産業応用
- C-4-11 フォトニック結晶偏光分離素子を用いた偏光カプラの作製と評価
- ファイバ集積型アイソレータの高性能化の一方法
- 積層形偏光分離素子を用いた偏波無依存ファイバ集積型アイソレータの作製
- 積層形偏光分離素子を用いた偏波無依存ファイバ集積型アイソレータ
- C-4-6 石英ガラス上及び磁性ガーネット基板上直接加工型フォトニック結晶偏光分離素子の作製と評価
- SC-4-14 格子変調型フォトニック結晶の作製と波長選択フィルタへの応周
- EMD2000-45 / CPM2000-60 / OPE2000-57 / LQE2000-51 Ta_2O_5/SiO_2系フォトニック結晶からなる青紫色波長用複屈折素子の作製とその特性
- EMD2000-44 / CPM2000-59 / OPE2000-56 / LQE2000-50 格子変調型フォトニック結晶導波路の解析と作製
- EMD2000-45 / CPM2000-60 / OPE2000-57 / LQE2000-51 Ta_2O_5/SiO_2系フォトニック結晶からなる青紫色波長用複屈折素子の作製とその特性
- EMD2000-44 / CPM2000-59 / OPE2000-56 / LQE2000-50 格子変調型フォトニック結晶導波路の解析と作製
- EMD2000-45 / CPM2000-60 / OPE2000-57 / LQE2000-51 Ta_2O_5/SiO_2系フォトニック結晶からなる青紫色波長用複屈折素子の作製とその特性
- EMD2000-44 / CPM2000-59 / OPE2000-56 / LQE2000-50 格子変調型フォトニック結晶導波路の解析と作製
- C-3-43 自己クローニング法により作製したコア平坦型フォトニック結晶導波路の低損失化
- C-4-9 ヘテロ構造を持つフォトニック結晶の作製
- リッジ型光周波数シフタ (光集積回路特集)
- 微小方向性結合型光スイッチ (光集積回路特集)
- ヘテロ構造フォトニック結晶の導波型光デバイスへの応用
- フォトニック結晶 : 機能性人工光学材料
- C-4-10 ヘテロ構造フォトニック結晶からなる機能性導波路チップの設計と評価
- C-4-8 Ta_2O_5/SiO_2系格子変調型フォトニック結晶導波路の低損失伝搬特性
- 自己クローニングフォトニック結晶の面内伝搬応用
- 自己クローニングフォトニック結晶の面内伝搬応用
- 自己クローニングフォトニック結晶の面内伝搬応用
- 自己クローニングフォトニック結晶の面内伝搬応用
- フォトニック結晶の自己クローニング法による作製技術(フォトニック結晶)
- 自己クローニングによるフォトニック結晶の作製とデバイス応用技術
- SC-4-11 自己クローニング型フォトニック結晶とその応用素子の現状
- CLEO/QELS 2000報告
- 2次元フォトニック結晶偏光分離素子の高性能化
- 2次元フォトニック結晶偏光分離素子の作製とその高性能化
- 可視光域フォトニック結晶の作製と複屈折素子への応用
- 可視域透明材料からなるホトニック結晶の作製
- 可視域透明材料からなるホトニック結晶の作製
- C-3-8 可視光域透明材料からなるフォトニック結晶の作製
- 自己クローニングによる3次元フォトニック結晶の作製と応用
- 自己クローニングによる3次元フォトニック結晶の作製と応用
- Si/SiO_2系サブミクロン周期3Dフォトニック結晶の作製と観察
- 積層形偏光分離素子の平面光導波路型アイソレータへの応用
- 自己クローニングによる3Dフォトニック結晶のプロセス・導波技術
- 積層形偏光分離素子の平面光導波路型アイソレータへの応用
- 積層形偏光分離素子の平面光導波路型アイソレータへの応用
- 積層形偏光分離素子の平面光導波路型アイソレータへの応用
- 積層形偏光分離素子の平面光導波路型アイソレータへの応用
- バイアス・スパッタリング法によるサブミクロン3D周期構造作製のメカニズム
- 大口径TECファイバによる高性能な無調整ファイバ集積型光アイソレータの作製
- 波長1.55μm用積層形偏光分離素子の2次元光回路へのハイブリッド集積
- 積層形偏光分離素子の2次元光回路へのハイブリッド集積
- 積層形偏光分離素子の2次元光回路へのハイブリッド集積
- Si/SiO_2系サブミクロン3次元フォトニック結晶の作製、評価と伝搬特性の解析
- Si/SiO_2系サブミクロン3次元フォトニック結晶の作製、評価と伝搬特性の解析
- Si/SiO_2系サブミクロン3次元フォトニック結晶の作製、評価と伝搬特性の解析
- C-4-7 Ta_2O_5/SiO_2系3次元フォトニック結晶を用いた多波長選択フィルタの一括作製と評価
- 変分表現式を利用したフォトニック結晶導波路の解析
- 変分表現式を利用したフォトニック結晶導波路の解析
- 変分表現式を利用したフォトニック結晶導波路の解析
- 変分表現式を利用したフォトニック結晶導波路の解析
- C-3-133 3 次元フォトニック結晶導波路の基準解析解について
- C-1-28 屈折率周期構造の固有周波数解析における変分表現の利用 : 定量評価
- 回転電界駆動による液晶偏光制御デバイス
- 2次元フォトニック結晶導波路の構造単純化モデルによる特性解析
- 自己クローニング法によるフォトニック結晶の作製と光学デバイスへの応用
- 解析解をもつフォトニック結晶構造とその電磁界