EMD2000-44 / CPM2000-59 / OPE2000-56 / LQE2000-50 格子変調型フォトニック結晶導波路の解析と作製
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概要
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我々はバイアススパッタリングにより基板表面の凹凸パターンを複製しながら多層膜を堆積する自己クローニング法を利用してフォトニック結晶を作製している。この技術に格子の間隔や方位を変調する「格子変調」の概念を取り入れることで、応用デバイスの範囲は格段に広がる。今回の報告では格子変調型フォトニック結晶導波路を提案し、その導波モードの近似解析結果及びその作製について述べる。
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 2000-08-18
著者
-
玉村 敏昭
Ntt物性科学基礎研究所:nttエレクトロニクス
-
大寺 康夫
東北大学大学院工学研究科
-
川上 彰二郎
東北大学未来科学技術共同研究センター
-
玉村 敏昭
Ntt物性科学基礎研究所
-
大寺 康夫
東北大学電気通信研究所
-
小澤 章
Nttアドバンステクノロジ
-
酒井 義剛
東北大学電気通信研究所
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