SOI基板を用いた酸化物クラッド2次元フォトニック結晶
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概要
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酸化物クラッド上2次元フォトニック結晶(2D-PhC)は比較的簡単に光集積回路に融合させることができる。厚み方向に非対称な構造(air/PhC/Oxide)は作製が容易であるという利点がある一方で、このような構造はフォトニックバンドギャップ(PBG)を持たないかも知れないということが指摘されている。我々は非対称構造の特徴を調べるために3次元FDTD(3-FDTD)法によるバンド計算を行い、酸化物の上に作製された2D-Si-PhCの透過率特性を測定した。その特性は、PhCの厚さがシングルモード条件を満たすとき非対称構造でもPBGを利用できることを示した。測定された透過率特性は計算されたバンド構造に一致し、PBGの存在を示した。これらの結果は非対称2次元Si-PhC-on-Oxide構造がさまざまな光学デバイスに適用できることを示している。
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 2000-12-07
著者
-
納富 雅也
NTT物性基礎研
-
新家 昭彦
NTT物性科学基礎研究所
-
玉村 敏昭
Ntt物性科学基礎研究所:nttエレクトロニクス
-
玉村 敏昭
Ntt物性科学基礎研究所
-
高橋 淳一
NTT通信エネルギー研究所
-
新家 昭彦
日本電信電話(株)NTT物性科学基礎研究所
-
横浜 至
NTT物性科学基礎研究所
-
高橋 千春
NTT通信エネルギー研究所
-
高橋 淳一
日本電信電話株式会社 Nttマイクロシステムインテグレーション研究所
-
新家 昭彦
Ntt物性基礎研究所
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