ファイバアレー集積化光アイソレータの高性能化
スポンサーリンク
概要
- 論文の詳細を見る
2本のTECファイバアレーに溝加工を行い, くさび形ルチルを用いたアイソレータチップを挿入して, ファイバ集積型光アイソレータをレンズフリーで無調整一括集積した. その結果, 二つのアイソレータとも波長範囲30nmで, 挿入損約1dB, 逆方向損30dB以上を得た. また更なる高性能化のため2段型構造のチップを使用し, 逆方向損が約50dBに向上することを実験的に確認した. 以上により, 我々が提案したハイブリッド集積方式の原理を確認し有用性を示した.
- 1997-03-25
著者
関連論文
- フォトニック結晶を用いた偏光イメージング技術と応用 (特集 ファンクショナル・イメージングデバイス)
- 2光束干渉露光法による大面積二次元周期構造を用いた多次元フォトニック結晶構造装荷InAlGaAs多重量子井戸構造の光励起発光特性(ナノ光技術・電子技術,次世代ナノテクノロジー論文)
- フォトニック結晶偏光子を用いた偏光イメージングカメラの開発(ナノ光技術・電子技術,次世代ナノテクノロジー論文)
- Ge超薄膜をもつ短波長用積層型偏光子と境界層の検討
- フォトニック結晶を用いた偏光計測デバイスへの応用
- フォトニック結晶偏光素子と2次元偏光計測の応用(光・電子デバイス実装,デバイス技術,及び一般)
- フォトニック結晶の偏光計測への応用(微細構造による光機能性界面の創出)
- 3D周期構造の技術開発とベンチャー起業
- パターン化偏光子を用いた偏光イメージングデバイスの開発と応用(システムLSIの応用と要素技術,専用プロセッサ,プロセッサ,DSP,画像処理技術,及び一般)
- フォトニック結晶素子と光情報の記録,撮像,表示への応用(光記録技術,一般)
- C-3-92 フォトニック結晶偏光子を集積した偏光イメージングカメラの開発(パッシブデバイス(2),C-3.光エレクトロニクス,一般講演)
- D-11-52 パターン化偏光子を用いた偏光イメージングデバイスと利用技術の開発(D-11.画像工学B(画像デバイス・装置),一般講演)
- C-3-75 フォトニック結晶アレイ応用デバイスの実用化動向(フォトニック結晶,C-3.光エレクトロニクス,一般講演)
- プラズマCVD法によるa-SiC:H/SiO_2積層形偏光分離素子の高性能化の検討
- C-3-72 フォトニック結晶偏光素子アレイと計測システムへの応用(C-3.光エレクトロニクス,一般セッション)
- パターン化偏光子を用いた偏光イメージングデバイスの開発と応用(システムLSIの応用と要素技術,専用プロセッサ,プロセッサ,DSP,画像処理技術,及び一般)
- パターン化偏光子を用いた偏光イメージングデバイスの開発と応用(システムLSIの応用と要素技術,専用プロセッサ,プロセッサ,DSP,画像処理技術,及び一般)
- パターン化偏光子を用いた偏光イメージングデバイスの開発と応用(システムLSIの応用と要素技術,専用プロセッサ,プロセッサ,DSP,画像処理技術,及び一般)
- C-3-117 Si/SiO_2系フォトニック結晶偏光分離素子
- フォトニック結晶偏光素子と2次元偏光計測の応用(光・電子デバイス実装,デバイス技術,及び一般)
- フォトニック結晶偏光素子と2次元偏光計測の応用(光・電子デバイス実装,デバイス技術,及び一般)
- フォトニック結晶偏光素子と2次元偏光計測の応用(光・電子デバイス実装,デバイス技術,及び一般)
- 屈折率分布の等価変換による異方性チャネル光導波路の解析
- フォトニック結晶を用いた偏光イメージングセンサーと産業応用
- TECファイバアレイー括集積形レンズフリー・アラインメントフリー光アイソレータ
- ファイバ集積型アイソレータの新構成方法の提案と試作
- ファイバ集積型アイソレータの高性能化の一方法
- 積層形偏光分離素子を用いた偏波無依存ファイバ集積型アイソレータの作製
- 積層形偏光分離素子を用いた偏波無依存ファイバ集積型アイソレータ
- EMD2000-45 / CPM2000-60 / OPE2000-57 / LQE2000-51 Ta_2O_5/SiO_2系フォトニック結晶からなる青紫色波長用複屈折素子の作製とその特性
- EMD2000-45 / CPM2000-60 / OPE2000-57 / LQE2000-51 Ta_2O_5/SiO_2系フォトニック結晶からなる青紫色波長用複屈折素子の作製とその特性
- EMD2000-45 / CPM2000-60 / OPE2000-57 / LQE2000-51 Ta_2O_5/SiO_2系フォトニック結晶からなる青紫色波長用複屈折素子の作製とその特性
- フォトニック結晶の自己クローニング法による作製技術(フォトニック結晶)
- 自己クローニングによるフォトニック結晶の作製とデバイス応用技術
- SC-4-11 自己クローニング型フォトニック結晶とその応用素子の現状
- CLEO/QELS 2000報告
- 2次元フォトニック結晶偏光分離素子の高性能化
- 2次元フォトニック結晶偏光分離素子の作製とその高性能化
- 可視光域フォトニック結晶の作製と複屈折素子への応用
- 可視域透明材料からなるホトニック結晶の作製
- 可視域透明材料からなるホトニック結晶の作製
- C-3-8 可視光域透明材料からなるフォトニック結晶の作製
- 自己クローニングによる3次元フォトニック結晶の作製と応用
- 自己クローニングによる3次元フォトニック結晶の作製と応用
- Si/SiO_2系サブミクロン周期3Dフォトニック結晶の作製と観察
- 積層形偏光分離素子の平面光導波路型アイソレータへの応用
- 自己クローニングによる3Dフォトニック結晶のプロセス・導波技術
- 積層形偏光分離素子の平面光導波路型アイソレータへの応用
- 積層形偏光分離素子の平面光導波路型アイソレータへの応用
- 積層形偏光分離素子の平面光導波路型アイソレータへの応用
- 積層形偏光分離素子の平面光導波路型アイソレータへの応用
- バイアス・スパッタリング法によるサブミクロン3D周期構造作製のメカニズム
- 大口径TECファイバによる高性能な無調整ファイバ集積型光アイソレータの作製
- 波長1.55μm用積層形偏光分離素子の2次元光回路へのハイブリッド集積
- 積層形偏光分離素子の2次元光回路へのハイブリッド集積
- 積層形偏光分離素子の2次元光回路へのハイブリッド集積
- Si/SiO_2系サブミクロン3次元フォトニック結晶の作製、評価と伝搬特性の解析
- Si/SiO_2系サブミクロン3次元フォトニック結晶の作製、評価と伝搬特性の解析
- Si/SiO_2系サブミクロン3次元フォトニック結晶の作製、評価と伝搬特性の解析
- Si/SiO_2系サブミクロン3次元フォトニック結晶の作製、評価と伝搬特性の解析
- 高アイソレーション無調整ファイバ集積型アイソレータの作製
- Si/SiO_23次元サブミクロン周期構造 : 作製と応用について
- Si/SiO_23次元サブミクロン周期構造 : 作製と応用について
- Si/SiO_2系サブミクロン周期3Dフォトニック結晶の作製と観察
- Si/SiO_2系サブミクロン周期3Dフォトニック結晶の作製と観察
- ファイバアレー集積化光アイソレータの高性能化
- ファイバアレー集積化光アイソレータの高性能化
- ファイバアレイ集積形光アイソレータの高性能化
- 無調整一括集積ファイバ形光アイソレータの高性能化
- TECファイバアレイにレンズフリー・アラインメントフリー : 一括集積した光アイソレータ
- a-Si:H/SiO_x:Hからなる積層形偏光分離素子の作製
- 1.55μm帯および1.3μm帯用積層形偏光分離素子の作製
- 積層型偏光分離素子の低損失化
- Si/SiO_2系フォトニック結晶導波路の導波解析
- CdSの3次元フォトニック結晶中への取り入れ技術と評価について
- 3次元フォトニック結晶へのCdSの取入れ
- 3次元フォトニック結晶へのCdSの取入れ
- ポリマ導波路と液晶セルの複合集積プロセスの検証
- ポリマ導波路と液晶セルの複合集積プロセスの検証
- C-3-97 ポリマー導波路と液晶セルの複合集積プロセスの検証
- 液晶可変波長フィルタの解析と実験
- 3次元フォトニック結晶へのIIIV族化合物半導体活性層の埋込み
- RFバイアススパッタリング法による滑らかな側面をもつ石英系光導波路の作製方法
- プラズマCVD法による波長1.3μm帯用積層型偏光分離素子の作製
- 光励起MQW面型光増幅器の作製
- InGaAs/InGaAlAs系MQW面形光増幅器の高利得化の検討
- 光励起MQW面型光増幅器
- 光励起MQW面型光増幅器の高利得化
- 光励起面型光増幅器の高利得化
- 光励起されたMQW面型光増幅器について
- マルチインライン光アイソレータの一構成法
- フォトニック結晶の作製と光デバイスへの応用
- フォトニック結晶とその応用光デバイス
- 液晶回転波長板を用いた偏波スタビライザと半導体光増幅器への応用
- 液晶回転波長板を用いた偏波スタビライザと半導体光増幅器への応用
- 液晶を用いた偏波制御による半導体光増幅器の偏波無依存化
- 液晶回転波長板を用いた偏波制御実験
- 液晶回転波長板の提案と実験
- 複合集積型光デバイスにおけるTECファイバ間の接続損失
- ヴァーティカルフォトニクスと光スイッチ・光制御