液晶を用いた偏波制御による半導体光増幅器の偏波無依存化
スポンサーリンク
概要
著者
関連論文
-
Ge超薄膜をもつ短波長用積層型偏光子と境界層の検討
-
フォトニック結晶偏光素子と2次元偏光計測の応用(光・電子デバイス実装,デバイス技術,及び一般)
-
C-3-106 PMDマネージメント向け小型・高精度DOPモニタの開発(C-3. 光エレクトロニクス(分散補償), エレクトロニクス1)
-
プラズマCVD法によるa-SiC:H/SiO_2積層形偏光分離素子の高性能化の検討
-
C-3-76 フォトニック結晶DOPモニタによるOSNR測定(フォトニック結晶,C-3.光エレクトロニクス,一般講演)
-
C-3-112 小型・高精度フォトニック結晶偏波モニタ(C-3. 光エレクトロニクス, エレクトロニクス1)
-
C-3-97 ファブリペロー共振器を有するマイケルソン干渉計型合分波器の波長特性平坦化
-
C-3-117 Si/SiO_2系フォトニック結晶偏光分離素子
-
フォトニック結晶偏光素子と2次元偏光計測の応用(光・電子デバイス実装,デバイス技術,及び一般)
-
フォトニック結晶偏光素子と2次元偏光計測の応用(光・電子デバイス実装,デバイス技術,及び一般)
-
フォトニック結晶偏光素子と2次元偏光計測の応用(光・電子デバイス実装,デバイス技術,及び一般)
-
屈折率分布の等価変換による異方性チャネル光導波路の解析
-
C-3-74 超高Δ導波路用スポットサイズ変換器
-
C-3-71 分割導波路型スポットサイズ変換器の高性能化
-
C-4-9 Ta_2O_5/SiO_2 系3次元フォトニック結晶フィルタを用いた AWG の低クロストーク化
-
C-3-122 石英系導波路アサーマル波長スプリッタ
-
C-3-88 石英系導波路1x4波長スプリッタ
-
C-3-20 CO_2レーザー照射による導波路伝搬損の調節
-
2段型フーリエフィルタの縦列接続合分波器の試作
-
ファイバ集積型アイソレータの高性能化の一方法
-
積層形偏光分離素子を用いた偏波無依存ファイバ集積型アイソレータの作製
-
積層形偏光分離素子を用いた偏波無依存ファイバ集積型アイソレータ
-
SC-4-14 格子変調型フォトニック結晶の作製と波長選択フィルタへの応周
-
アレイ導波路型光合分波器の低損失・温度無依存化
-
2次元フォトニック結晶偏光分離素子の高性能化
-
2次元フォトニック結晶偏光分離素子の作製とその高性能化
-
可視光域フォトニック結晶の作製と複屈折素子への応用
-
可視域透明材料からなるホトニック結晶の作製
-
可視域透明材料からなるホトニック結晶の作製
-
C-3-8 可視光域透明材料からなるフォトニック結晶の作製
-
自己クローニングによる3次元フォトニック結晶の作製と応用
-
自己クローニングによる3次元フォトニック結晶の作製と応用
-
Si/SiO_2系サブミクロン周期3Dフォトニック結晶の作製と観察
-
積層形偏光分離素子の平面光導波路型アイソレータへの応用
-
自己クローニングによる3Dフォトニック結晶のプロセス・導波技術
-
積層形偏光分離素子の平面光導波路型アイソレータへの応用
-
積層形偏光分離素子の平面光導波路型アイソレータへの応用
-
積層形偏光分離素子の平面光導波路型アイソレータへの応用
-
積層形偏光分離素子の平面光導波路型アイソレータへの応用
-
バイアス・スパッタリング法によるサブミクロン3D周期構造作製のメカニズム
-
大口径TECファイバによる高性能な無調整ファイバ集積型光アイソレータの作製
-
波長1.55μm用積層形偏光分離素子の2次元光回路へのハイブリッド集積
-
積層形偏光分離素子の2次元光回路へのハイブリッド集積
-
積層形偏光分離素子の2次元光回路へのハイブリッド集積
-
Si/SiO_2系サブミクロン3次元フォトニック結晶の作製、評価と伝搬特性の解析
-
Si/SiO_2系サブミクロン3次元フォトニック結晶の作製、評価と伝搬特性の解析
-
Si/SiO_2系サブミクロン3次元フォトニック結晶の作製、評価と伝搬特性の解析
-
Si/SiO_2系サブミクロン3次元フォトニック結晶の作製、評価と伝搬特性の解析
-
Si/SiO_23次元サブミクロン周期構造 : 作製と応用について
-
Si/SiO_23次元サブミクロン周期構造 : 作製と応用について
-
Si/SiO_2系サブミクロン周期3Dフォトニック結晶の作製と観察
-
Si/SiO_2系サブミクロン周期3Dフォトニック結晶の作製と観察
-
ファイバアレー集積化光アイソレータの高性能化
-
ファイバアレー集積化光アイソレータの高性能化
-
ファイバアレイ集積形光アイソレータの高性能化
-
a-Si:H/SiO_x:Hからなる積層形偏光分離素子の作製
-
1.55μm帯および1.3μm帯用積層形偏光分離素子の作製
-
積層型偏光分離素子の低損失化
-
インターリーブ光合分波器(光部品・電子デバイス実装技術, 一般)
-
インターリーブ光合分波器(光部品・電子デバイス実装技術, 一般)
-
インターリーブ光合分波器(光部品・電子デバイス実装技術, 一般)
-
インターリーブ光合分波器(光部品・電子デバイス実装技術, 一般)
-
C-3-69 高Δ石英導波路用分割導波路型スポットサイズ変換器
-
C-3-62 インターリーブ WDM 用 AWG 型合分波器
-
C-3-44 アレイ導波路型光合成分波器を用いたダイナミック利得等化器
-
C-3-123 DWDM用導波路型1x4波長スプリッタ
-
Si/SiO_2系フォトニック結晶導波路の導波解析
-
C-3-93 アレイ導波路型光合分波器を利用したダイナミック利得等化器
-
CdSの3次元フォトニック結晶中への取り入れ技術と評価について
-
3次元フォトニック結晶へのCdSの取入れ
-
3次元フォトニック結晶へのCdSの取入れ
-
ポリマ導波路と液晶セルの複合集積プロセスの検証
-
ポリマ導波路と液晶セルの複合集積プロセスの検証
-
C-3-97 ポリマー導波路と液晶セルの複合集積プロセスの検証
-
液晶可変波長フィルタの解析と実験
-
C-3-87 D-WDM用導波路型波長スプリッタ
-
C-3-15 3段MZI型インターリーブ合分波器の低分散化の検討
-
3次元フォトニック結晶へのIIIV族化合物半導体活性層の埋込み
-
RFバイアススパッタリング法による滑らかな側面をもつ石英系光導波路の作製方法
-
プラズマCVD法による波長1.3μm帯用積層型偏光分離素子の作製
-
光励起MQW面型光増幅器の作製
-
3段MZI型インターリーブ合分波器のアイソレーション向上検討
-
InGaAs/InGaAlAs系MQW面形光増幅器の高利得化の検討
-
光励起MQW面型光増幅器
-
光励起MQW面型光増幅器の高利得化
-
光励起面型光増幅器の高利得化
-
光励起されたMQW面型光増幅器について
-
回転電界駆動による液晶偏光制御デバイス
-
マルチインライン光アイソレータの一構成法
-
フォトニック結晶の作製と光デバイスへの応用
-
液晶回転波長板 (特集:液晶光学素子とその応用)
-
フォトニック結晶とその応用光デバイス
-
液晶回転波長板を用いた偏波スタビライザと半導体光増幅器への応用
-
液晶回転波長板を用いた偏波スタビライザと半導体光増幅器への応用
-
液晶を用いた偏波制御による半導体光増幅器の偏波無依存化
-
液晶回転波長板を用いた偏波制御実験
-
液晶を用いた偏波制御
-
液晶回転波長板の提案と実験
-
複合集積型光デバイスにおけるTECファイバ間の接続損失
-
ヴァーティカルフォトニクスと光スイッチ・光制御
もっと見る
閉じる
スポンサーリンク