大きな偏光分離角を有する斜め配向シリコン蒸着膜の低損失化
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概要
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21°の大きな偏光分離角を有する,斜め配向シリコン蒸着膜の低損失化を検討した.成膜時のガス圧条件の最適化とアニール処理により,散乱と吸収による透過損を抑制し,1.5dB/100μmの低損失蒸着膜を得た.
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 2009-03-01
著者
-
依田 秀彦
宇都宮大学大学院工学研究科
-
白石 和男
宇都宮大学大学院工学研究科情報制御システム科学
-
稲葉 巧
宇都宮大学大学院工学研究科
-
大野 泰司
宇都宮大学大学院工学研究科
-
白石 和男
宇都宮大学大学院工学研究科
-
室 幸市
宇都宮大学大学院工学研究科
-
白石 和男
宇都宮大学
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