C-3-85 改良インプリント法による金属薄膜サブ波長格子構造偏光子の作製(パッシブデバイス(II),C-3.光エレクトロニクス,一般セッション)
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概要
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- 2011-08-30
著者
-
依田 秀彦
宇都宮大学大学院工学研究科
-
大野 泰司
宇都宮大学大学院工学研究科
-
白石 和男
宇都宮大学大学院工学研究科
-
白石 和男
宇都宮大学
-
稲川 雄太
宇都宮大学工学研究科
-
小藤 美紗子
宇都宮大学工学研究科
-
稲川 雄太
宇都宮大学大学院工学研究科
-
小藤 美紗子
宇都宮大学大学院工学研究科
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