斜め配向Si厚膜の作製と広開口偏光分離素子への応用
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概要
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斜め配向した柱状構造を有するSi厚膜を作製し、大きな偏光分離角を得た。同種の構造に偏光分離作用ががあることは、Ta_2O_5厚膜を用いて確認されているが、偏光分離角が小さく、ルチルや方解石の1.3倍にとどまっている。本報告では、偏光分離角を大きくするため、材料にSiを用いて厚膜を作製した。蒸着粒子の入射角を大きくすることにより、柱の成長角が58°の斜め配向柱状Si厚膜を得た。偏光分離特性を調べた結果、波長1.55μmにおいで20°という大きな値(ルチルや方解石の3.5倍)が得られた。
- 1997-08-21
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