Optical Second Harmonic Generation in Si_<1-x>Ge_x Film Epitaxially Grown on Si(100)
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概要
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- 社団法人応用物理学会の論文
- 1995-01-15
著者
-
室田 淳一
東北大学 電気通信研究所
-
USHIODA Sukekatsu
Research Institute of Electrical Communication, Tohoku University
-
Takata M
Nagaoka Univ. Technology Niigata
-
MUROTA Junichi
Research Institute of Electrical Communication, Tohoku University
-
Mizutani Goro
School of Materials Science, Japan Advanced Institute of Science and Technology
-
Maeda T
Semiconductor Leading Edge Technol. Inc. Ibaraki Jpn
-
Maeda T
Electrotechnical Lab. Tskuba Jpn
-
Maeda Toru
Department Of Material Science Graduate School Of Engineering Tohoku Uniiversity
-
Maeda T
Storage Technology Research Center Research & Development Group Hitachi Ltd.
-
Maeda T
Electrotechnical Lab. Ibaraki Jpn
-
Maeda Tatsuro
Electrotechnical Laboratory
-
Ushioda Sukekatsu
Research Institute Of Electrical Communication Tohokn University
-
Mizutani Goro
School Of Materials Science Jaist
-
Murota Junichi
Research Institute For Electrical Communications Tohoku University
-
SONODA Yasuyuki
Research Institute of Electrical Communication, Tohoku University
-
MAEDA Takahiro
Research Institute of Electrical Communication, Tohoku University
-
Sonoda Y
School Of Materials Science Japan Advanced Institute Of Science And Technology
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