原材料に起因したHf酸化膜中メタル不純物の分析とTDDB寿命への影響
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概要
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- 2007-07-12
著者
-
吉村 秀文
(株)ルネサステクノロジ
-
井上 真雄
(株)ルネサステクノロジ生産技術本部ウエハプロセス技術統括部プロセス開発部
-
由上 二郎
(株)ルネサステクノロジ
-
水谷 斉治
(株)ルネサステクノロジ
-
土本 淳一
(株)ルネサステクノロジ
-
由上 二郎
(株)日立製作所 中央研究所
-
児島 雅之
(株)ルネサステクノロジ
-
土本 淳一
ルネサス テクノロジ
-
由上 二郎
(株)半導体先端テクノロジーズ(selete)
-
井上 真雄
(株)ルネサステクノロジ
-
野村 幸司
(株)ルネサスセミコンダクタエンジニアリング
-
土本 淳一
(株)ルネサステクノロジ、生産本部、ウエハプロセス技術統括部、プロセス開発部
-
由上 二郎
ルネサス テクノロジ
-
土本 淳一
(株)ルネサス テクノロジ、生産本部、ウエハプロセス技術統括部
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