Dual-core-SiON 技術を活用したhp65-SoC LOP向けOI-SiNゲート絶縁膜
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概要
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- 2007-01-19
著者
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林 岳
(株)ルネサステクノロジ ウェハプロセス技術統括部
-
林 岳
(株)ルネサステクノロジ
-
吉村 秀文
(株)ルネサステクノロジ
-
米田 昌弘
(株)ルネサステクノロジ
-
河瀬 和雅
三菱電機(株)先端総研
-
梅田 浩司
(株)ルネサステクノロジ生産技術本部ウエハプロセス技術統括部プロセス開発部
-
由上 二郎
(株)ルネサステクノロジ
-
志賀 克哉
(株)ルネサステクノロジ
-
志賀 克哉
(株)ルネサステクノロジ ウェハプロセス技術統括部
-
由上 二郎
(株)半導体先端テクノロジーズ(selete)
-
辻川 真平
(株)ルネサス テクノロジ、生産本部、ウエハプロセス技術統括部
-
大西 和博
(株)ルネサステクノロジ ウェハプロセス技術統括部
-
梅田 浩司
(株)ルネサステクノロジ ウェハプロセス技術統括部
-
辻川 真平
(株)ルネサステクノロジ ウェハプロセス技術統括部
-
由上 二郎
ルネサス テクノロジ
-
梅田 浩司
(株)ルネサステクノロジ
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