大西 和博 | (株)ルネサステクノロジ ウェハプロセス技術統括部

スポンサーリンク

概要

• 大西 和博の詳細を見る
• 同名の論文著者
• (株)ルネサステクノロジ ウェハプロセス技術統括部の論文著者

関連著者

• 林 岳

  (株)ルネサステクノロジ ウェハプロセス技術統括部

• 林 岳

  (株)ルネサステクノロジ

• 吉村 秀文

  (株)ルネサステクノロジ

• 米田 昌弘

  (株)ルネサステクノロジ

• 河瀬 和雅

  三菱電機(株)先端総研

• 梅田 浩司

  (株)ルネサステクノロジ生産技術本部ウエハプロセス技術統括部プロセス開発部

• 由上 二郎

  (株)ルネサステクノロジ

• 志賀 克哉

  (株)ルネサステクノロジ

• 志賀 克哉

  (株)ルネサステクノロジ ウェハプロセス技術統括部

• 由上 二郎

  (株)半導体先端テクノロジーズ(selete)

• 辻川 真平

  (株)ルネサス テクノロジ、生産本部、ウエハプロセス技術統括部

• 大西 和博

  (株)ルネサステクノロジ ウェハプロセス技術統括部

• 梅田 浩司

  (株)ルネサステクノロジ ウェハプロセス技術統括部

• 辻川 真平

  (株)ルネサステクノロジ ウェハプロセス技術統括部

• 由上 二郎

  ルネサス テクノロジ

• 梅田 浩司

  (株)ルネサステクノロジ

• 梅田 浩司

  ULSI技術開発センター

• 由上 二郎

  (株)日立製作所 中央研究所

もっと見る 閉じる

著作論文

• Dual-core-SiON技術を活用したhp65-SoC LOP向けOI-SiNゲート絶縁膜(IEDM(先端CMOSデバイス・プロセス技術))
• Dual-core-SiON 技術を活用したhp65-SoC LOP向けOI-SiNゲート絶縁膜

スポンサーリンク