土本 淳一 | (株)ルネサス テクノロジ、生産本部、ウエハプロセス技術統括部
スポンサーリンク
概要
関連著者
-
土本 淳一
(株)ルネサステクノロジ
-
土本 淳一
(株)ルネサス テクノロジ、生産本部、ウエハプロセス技術統括部
-
井上 真雄
(株)ルネサステクノロジ生産技術本部ウエハプロセス技術統括部プロセス開発部
-
土本 淳一
ルネサス テクノロジ
-
井上 真雄
(株)ルネサステクノロジ
-
土本 淳一
(株)ルネサステクノロジ、生産本部、ウエハプロセス技術統括部、プロセス開発部
-
大野 吉和
(株)ルネサステクノロジ
-
水谷 斉治
(株)ルネサステクノロジ
-
米田 昌弘
(株)ルネサステクノロジ
-
由上 二郎
(株)ルネサステクノロジ
-
由上 二郎
(株)日立製作所 中央研究所
-
由上 二郎
(株)半導体先端テクノロジーズ(selete)
-
由上 二郎
ルネサス テクノロジ
-
志賀 克哉
(株)ルネサステクノロジ
-
志賀 克哉
(株)ルネサステクノロジ ウェハプロセス技術統括部
-
野村 幸司
(株)ルネサスセミコンダクタエンジニアリング
-
林 岳
(株)ルネサステクノロジ ウェハプロセス技術統括部
-
林 岳
(株)ルネサステクノロジ
-
嶋本 泰洋
(株)日立製作所中央研究所
-
藤田 文子
(株)ルネサステクノロジ
-
児島 雅之
(株)ルネサステクノロジ
-
土本 淳一
ルネサスエレクトロニクス株式会社
-
上野 修一
(株)ルネサステクノロジ
-
吉村 秀文
(株)ルネサステクノロジ
-
栄森 貴尚
(株)半導体先端テクノロジーズ(selete):(現)(株)ルネサステクノロジ
-
堤 聡明
(株)ルネサステクノロジ
-
黒岩 丈晴
三菱電機株式会社 先端技術総合研究所
-
黒岩 丈晴
三菱電機(株)
-
前川 和義
(株)ルネサステクノロジ
-
柏原 慶一朗
(株)ルネサステクノロジ
-
山口 直
(株)ルネサステクノロジ
-
浅井 孝祐
(株)ルネサステクノロジ
-
大路 譲
株式会社日立製作所半導体事業部
-
工藤 修一
(株)ルネサステクノロジ
-
奥平 智仁
(株)ルネサステクノロジ
-
村田 直文
(株)ルネサステクノロジ
-
橋川 直人
(株)ルネサステクノロジ
-
浅井 考祐
(株)ルネサステクノロジ
-
前川 和義
ルネサス テクノロジ
-
栄森 貴尚
(株)ルネサステクノロジ
-
古田 陽雄
(株)ルネサステクノロジ
-
前島 伸六
(株)ルネサステクノロジ
-
辻 高晴
(株)ルネサステクノロジ
-
古賀 剛
(株)ルネサステクノロジ
-
大路 譲
(株)ルネサステクノロジ
-
辻川 真平
(株)ルネサス テクノロジ、生産本部、ウエハプロセス技術統括部
-
藤原 啓司
(株)ルネサス テクノロジ、生産本部、ウエハプロセス技術統括部
-
辻川 真平
(株)ルネサステクノロジ ウェハプロセス技術統括部
-
辻 高晴
株式会社ルネサステクノロジ
-
古田 陽雄
株式会社ルネサステクノロジ
-
大路 譲
(株)半導体先端テクノロジーズ(selete)
-
浅井 孝祐
株式会社ルネサステクノロジ
-
大路 譲
半導体先端テクノロジーズ(selete)
著作論文
- poly-Si電極における仕事関数変調とそのデバイスインパクト : SiON/poly-Si界面の微量Hfの効果(VLSI回路, デバイス技術(高速・低電圧・低消費電力))
- Si注入技術を用いたNiシリサイド形成領域制御によるnMOSFETの異常ゲートエッジリーク抑制
- 原材料に起因したHf酸化膜中メタル不純物の分析とTDDB寿命への影響
- 高速/高信頼性130nm-node MRAM(新型不揮発性メモリ)
- 高い駆動能力を有する高信頼HfSiONゲート絶縁膜の作製
- HfSiON high-kゲート形成プロセスによるBTストレス中のV_安定性改善(プロセスクリーン化と新プロセス技術)
- 低リーク、高移動度HfSiONゲートを実現する界面制御技術(プロセスクリーン化と新プロセス技術)
- N_2プラズマを用いたSi基板直接窒化SiNゲート絶縁膜の作製
- N_2プラズマを用いたSi基板直接窒化SiNゲート絶縁膜の作製(プロセスクリーン化と新プロセス技術)
- poly-Si電極における仕事関数変調とそのデバイスインパクト : SiON/poly-Si界面の微量Hfの効果(VLSI回路, デバイス技術(高速・低電圧・低消費電力))