奥山 雅則 | 大阪大学大学院基礎工学研究科

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概要

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• 大阪大学大学院基礎工学研究科の論文著者

関連著者

• 奥山 雅則

  大阪大学大学院基礎工学研究科

• 奥山 雅則

  大阪大学基礎工学研究科

• 金島 岳

  大阪大学大学院基礎工学研究科

• 金島 岳

  大阪大学

• 奥山 雅則

  大阪大学

• 山下 馨

  京都工芸繊維大学大学院工芸科学研究科

• 野田 実

  京都工芸繊維大学大学院工芸科学研究科

• 奥山 雅則

  大阪大学基礎工学部電気工学科

• 寒川 雅之

  大阪大学大学院基礎工学研究科

• 井上 幸二

  大阪府立産業技術総合研究所

• 野田 実

  大阪大学大学院基礎工学研究科

• 山下 馨

  大阪大学基礎工学研究科

• 野間 春生

  国際電気通信基礎技術研究所

• 野間 春生

  ATR

• 田中 恒久

  大阪府立産業技術総合研究所

• 青柳 誠司

  関西大学システム理工学部機械工学科

• 藤本 晶

  和歌山工高専

• 鈴木 義彦

  大阪府立産業技術総合研究所 材料技術部

• 山下 馨

  大阪大学大学院基礎工学研究科

• 青柳 誠司

  関西大学工学部

• 鈴木 義彦

  大阪府立産業技術総合研究所

• 鈴木 義彦

  独立行政法人科学技術振興機構 研究成果活用プラザ大阪

• 野間 春生

  (株)国際電気通信基礎技術研究所知能ロボティクス研究所

• 村上 修一

  大阪府立産業技術総合研究所 材料技術部

• 藤本 晶

  和歌山工業高等専門学校

• 李 昇穆

  Ingen MSL

• 野田 実

  京都工芸繊維大学

• 寒川 雅之

  大阪大学 大学院 基礎工学研究科

• 山下 馨

  京都工芸繊維大学

• 村上 修一

  大阪府立産業技術総合研究所

• 浜川 圭弘

  立命館大学大学院

• 青柳 誠司

  関西大,工

• 山下 馨

  大阪大,基礎工

• 野田 実

  大阪大学基礎工学研究科

• 毎田 修

  大阪大学産業科学研究所セラミック機能材料分野

• 北井 聡

  大阪大学大学院基礎工学研究科物理系専攻機能材料デバイス講座

• 村上 英之

  大阪大学大学院基礎工学研究科

• 車 溥相

  大阪大学

• 野田 実

  大阪大学 大学院基礎工学研究科

• ポポビッチ ダニエル

  大阪大学 大学院基礎工学研究科

• 浜川 圭弘

  大阪大学基礎工学部

• 浜川 圭弘

  大阪大学 基礎工学部

• 車 溥相

  大阪大学基礎工学研究科

• チャンソムプー ラパサミサイ

  大阪大学大学院基礎工学研究科

• 水戸 和

  国際電気通信基礎技術研究所

• 山添 大丈

  国際電気通信基礎技術研究所

• 吉田 俊介

  国際電気通信基礎技術研究所

• 多田 昌裕

  国際電気通信基礎技術研究所

• 大橋 治彦

  (財)高輝度光科学研究センター

• 金島 岳

  大阪大学基礎工学研究科

• 土谷 明

  大阪府立産業技術総合研究所

• 有田 滋

  大阪府立産業技術総合研究所

• 有田 滋

  (財)大阪産業振興機構

• 高馬 悟覚

  大阪大学大学院基礎工学研究科物理系専攻機能材料デバイス講座

• 大橋 治彦

  高輝度光科学研究センター放射光研究所

• 佐々木 善伸

  三菱電機株式会社高周波光デバイス製作所

• 小丸 真喜雄

  三菱電機株式会社 光・マイクロ波デバイス開発研究所

• 小野 大輔

  関西大

• 佐々木 善伸

  三菱電機高周波光デバイス製作所

• 小丸 真喜雄

  三菱電機高周波光デバイス製作所

• 江利口 浩二

  松下電子工業 (株) 半導体社プロセス開発センター

• 池田 幸司

  大阪大学大学院基礎工学研究科

• 神田 浩文

  大阪大学大学院基礎工学研究科物理系専攻機能材料デバイス講座

• 青柳 誠司

  関西大学

• 奥山 雅則

  大阪大学 大学院基礎工学研究科

• 杉山 秀樹

  大阪大学基礎工学研究科物理系機能デバイス講座

• 高橋 光恵

  大阪大学大学院基礎工学研究科物理系専攻機能材料デバイス講座

• 濱川 圭弘

  大阪大学

• 多田 泰三

  大阪大学大学院基礎工学研究科

• 多田 昌裕

  Atr知能ロボティクス研

• 李 昇穆

  大阪府立産業技術総合研究所

• 李 昇穆

  (株)Ingen MSL

• 小丸 真喜雄

  三菱電機株式会社高周波光デバイス製作所

• 小丸 真喜雄

  三菱電機株式会社

• 佐々木 善伸

  三菱電機株式会社

• 野中 聡

  旭川医科大学耳鼻咽喉科・頭頸部外科学講座

• 山添 大丈

  ATR知能ロボティクス研究所

• 橘 弘人

  大阪大学基礎工学研究科

• 美馬 達也

  大阪大学基礎工学研究科

• 寒川 雅之

  大阪大学基礎工学研究科

• 高松 繁男

  日立造船株式会社 技術本部 技術研究所

• 莫 要武

  大阪府立産業技術総合研究所

• 加藤 元郎

  関西大

• 三好 弘己

  村田製作所

• 堅田 広司

  大阪大

• 多田 泰三

  大阪大学大学院基礎工学研究科電子光科学領域

• 上野 正人

  大阪大学大学院基礎工学研究科物理系専攻機能材料デバイス講座

• 弓達 新治

  大阪大学

• 吉田 真人

  大阪大学基礎工学研究科電子光科学領域

• 臼杵 辰朗

  大阪府seisプロジェクト

• 多田 昌裕

  ATR知能ロボティクス研究所

• 向川 友徳

  大阪府seisプロジェクト

• 江利口 浩二

  松下電器産業(株)

• 黄 裕銘

  大阪大学

• 藤本 晶

  和歌山高専電気情報工学科

• 阿形 眞司

  大阪大学大学院基礎工学研究科物理系専攻機能材料デバイス講座

• 野村 哲男

  立命館大学大学院

• 濱川 圭弘

  立命館大学大学院

• 宮本 哲雄

  平成13年度客員研究員:(現)日本電子株式会社

• 古川 克英

  関西大

• 今庄 秀人

  大阪大学大学院基礎工学研究科システム創成専攻電子光科学領域

• LEE Hyun

  大阪大学大学院基礎工学研究科システム創成専攻電子光科学領域

• 吉岡 祐一

  大阪大学大学院基礎工学研究科システム創成専攻電子光科学領域

• 呉 文彪

  大阪大学

• 橋本 和彦

  大阪府seisプロジェクト

• 野中 源一郎

  九州大学薬学部

• 野中 誠

  昭和大学藤が丘病院呼吸器外科

• 上江洲 由晃

  早大理工

• 高野 政晴

  関西大学工学部

• 前中 一介

  姫路工業大学

• 橋本 和彦

  松下電器産業株式会社

• 末光 眞希

  東北大学電気通信研究所

• 田中 秀一

  山武ハネウェル株式会社技術研究センター

• 釜鳴 志朗

  大阪大学基礎工学研究科

• 西原 功修

  大阪大学レーザーエネルギー学研究センター:(株)浜松ホトニクス:(有)キャトルアイ・サイエンス

• 吉田 俊介

  Atrメディア情報科学研究所

• 莫 要武

  セイコーエプソン(株)

• 北野 智子

  日立造船株式会社

• 木下 正生

  日立造船株式会社

• 堅田 広司

  大阪大学

• 三好 弘己

  関西大学

• 加藤 元郎

  関西大学

• 有田 滋

  大阪府研究開発企業振興財団

• 若生 綾子

  関西大

• 前田 達徳

  大阪工大

• 鈴木 義彦

  大阪産技研

• 夏川 一輝

  大阪産技研

• 奥山 雅則

  阪大 基礎工

• 津森 正樹

  大阪大学大学院基礎工学研究科電子光科学領域

• 奥本 雅規

  大阪大学大学院基礎工学研究科物理系専攻機能材料デバイス講座

• 阿形 真司

  大阪大学

• 八木 駿郎

  北大電子研

• 中嶋 誠二

  兵庫県大院工

• 奥山 雅則

  阪大院基礎工

• 馬越 大

  Department Of Chemical Science And Engineering Graduate School Of Engineering Science Osaka Universi

• 中村 嘉孝

  大阪大学

• 後藤 民浩

  「応用物理」編集委員会

• 小長井 誠

  東京工業大学大学院理工学研究科電子物理工学専攻

• 上江洲 由晃

  早稲田理工

• 吉木 宏之

  鶴岡工業高等専門学校電気電子工学科

• 久保 竜一

  村田製作所

• 宇野 真由美

  大阪府立産業技術総合研究所

• 前中 一介

  兵庫県大

• 多田 昌裕

  ATR 知識科学研究所

• 樋口 誠良

  オムロン(株)京阪奈イノベーションセンター

• 吉崎 智也

  大阪大学

• 野間 春生

  株式会社国際電気通信基礎技術研究所

• 大西 浩之

  大阪大学

• 池田 正哲

  オムロン

• 多田 泰三

  大阪大学基礎工学研究科電子光科学領域

• 吉田 真人

  大阪大学大学院基礎工学研究科システム創成専攻電子光科学領域

• 毎田 修

  大阪大学大学院基礎工学研究科物理系専攻機能材料デバイス講座

• 下代 雅啓

  大阪府立大学

• 末光 眞希

  東北大学

• 奥山 雅則

  大阪大学ナノサイエンスデザイン教育研究センター

• 村上 修一

  材料技術部電子デバイスグループ

• 宮本 哲雄

  平成13年度客員研究員

• 井上 幸二

  材料技術部電子デバイスグループ

• 宮本 哲雄

  大阪府立産業技術総合研究所

• 久保井 亮一

  大阪大学基礎工学部化学応用科学科

• 馬越 大

  大阪大学基礎工学部化学応用科学科

• 久保井 亮一

  大阪大学大学院基礎工学研究科 物質創成専攻化学工学領域

• Kuboi Ryoichi

  Osaka University

• 有延 康

  京都工芸繊維大学

• 浅井 健

  京都工芸繊維大学

• 島内 寿徳

  大阪大学

• 馬越 大

  大阪大学 大学院基礎工学研究科 化学工学領域

• 小長井 誠

  東工大

• Umakoshi Hiroshi

  Osaka Univ. Osaka Jpn

• 島内 寿徳

  Department Of Chemical Science And Engineering Graduate School Of Engineering Science Osaka Universi

• Shimanouchi Toshinori

  大阪大学 基礎工学研究科化学工学

• Kuboi R

  Department Of Chemical Science And Engineering Graduate School Of Engineering Science Osaka Universi

• Kuboi Ryoichi

  Osaka Univ. Osaka Jpn

• Kuboi R

  Department Of Chemical Engineering Osaka University

• 河合 剛

  関西大学

• 金島 岳

  大阪大学 大学院 基礎工学研究科

• 桑野 幸徳

  三洋電機株式会社

• 中山 喜萬

  大阪大学

• 後藤 民浩

  群馬大学

• 浜川 圭弘

  大阪大学

• 久保井 亮一

  大阪大学 大学院基礎工学研究科 物質創成専攻

• 生駒 京子

  (株)プロアシスト

• 西村 三千雄

  (株)プロアシスト

• 釜鳴 志郎

  大阪大学

• 松浦 宏俊

  大阪大学

• LEE Dong-Hun

  大阪大学大学院基礎工学研究科システム創成専攻電子光科学領域

• LEE Hyun

  阪大

• 吉岡 祐一

  阪大

• 金島 岳

  阪大

• 渡邊 友浩

  大阪大学

• 小野 大輔

  関西大,工

• 河合 剛

  関西大,工

• 奥山 雅則

  大阪大,基礎工

• 大村 勇樹

  大阪大学

• 岩橋 啓介

  大阪大学

• 臼杵 辰朗

  三洋電機(株)機能材料研究所

• 魏 志強

  大阪大学

• 吉木 宏之

  (株)ダイヘン

• 中嶋 誠二

  大阪大学

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著作論文

• 触覚センサアレイを用いたHMMによる把持面状態の識別手法(感性情報処理とマルチメディア技術および一般)
• Hf(O-t-C_4H_9)_4を用いた光アシストMOCVDによるHfO_2薄膜の作製と評価(ゲート絶縁膜, 容量膜, 機能膜及びメモリ技術)
• 超音波マイクロアレイセンサ用加算機能付きBBDの開発
• PZT圧電体膜を用いた異常音検知マイクロセンサの作製とその評価
• BBD遅延加算回路を用いた超音波計測システムの開発
• PZT膜を用いた特定音波検知マイクロセンサの作製とその特性
• 電気的ビーム走査を目的としたマイクロアレイ型超音波センサの開発
• PZT薄膜を用いたアレイ型超音波マイクロセンサ
• マイクロアレイ超音波センサ用BBD半導体集積回路の開発
• 大阪府先導的研究 : 「スーパーアイ・イメージセンサ研究開発」について
• 軟X線アブレーションによるPTFE低誘電率膜の作製
• SPing-8アンジュレータ光によるSiO_2膜の軟X線エッチングとSiの酸化・窒化
• Figure-8 アンジュレータによるSiO_2膜の軟X線エッチングおよび評価
• MEMS技術を用いた次世代ロボット用多軸触覚センサの作製(センサーデバイス,MEMS,一般)
• HfO_2/Ge MIS構造のF_2処理と窒素ラジカル処理による電気的特性の向上(レギュラーセッション,ゲート絶縁薄膜,容量膜,機能膜及びメモリ技術)
• F_2表面処理したHfO_2/Ge MIS構造の電気的特性評価(シリコン関連材料の作製と評価)
• NiCr薄膜歪みゲージによるポリマー/Siカンチレバー型多軸触覚センサの高分解能化
• 適度な傾斜形状を有するCr/Siマイクロカンチレバー構造を用いた多軸触覚センサの作製と評価
• 空中用の静電容量型マイクロ超音波センサの電気機械的特性
• PRSによるHigh-kゲート絶縁膜中の固定電荷の評価(シリコン関連材料の作製と評価)
• ESRによるHfO_2薄膜の欠陥評価(ゲート絶縁膜,容量膜,機能膜及びメモリ技術)
• PLDにより製膜したHf酸化物の界面評価(半導体Si及び関連材料・評価)
• High-k PrOχゲート絶縁膜の電気的・光学的特性
• PrO_Xゲート絶縁膜のPLD法による作製
• ZrO_2高誘電率ゲート絶縁膜のPLDによる作製と評価
• フォトレフレクタンス分光法によるゲート酸化膜に導入されたチャージングダメージの光学的評価(半導体Si及び関連電子材料評価)
• 3方向カンチレバーを用いた多軸触覚センサの作製と基礎特性
• 強誘電体薄膜を用いた誘電ボロメータ型赤外線センサ
• 誘電ボロメータ型赤外線センサアレイ駆動方式の考察
• 誘電ボロメータ型赤外線センサの開発
• BaTi_Sn_xO_3薄膜誘電ボロメータ型赤外線センサの作製と基礎特性
• 漏れ電流マイクロセンサを用いた電解質封入リポソーム・タンパク質間相互作用センシング
• 触覚センサアレイを用いたHMMによる把持面状態の識別手法
• 太陽電池の夢を追って
• 4222 パリレンを用いた静電容量型マイクロ超音波センサの開発(J24-2 生産機械のマイクロ化(2))
• フッ素系樹脂を用いた超音波マイクロアレイセンサの特性改善
• フッ素系樹脂を用いた超音波マイクロセンサの特性改善
• フッ素系樹脂を用いた超音波マイクロセンサ作製プロセス
• 自律移動ロボットのリアルタイム3次元計測用超音波マイクロアレイセンサに関する研究開発(中小企業総合事業団プロジェクト・ロボット部品開発)
• 静電型超音波トランスデューサでのダンピング効果(音声,応用音響,一般,音声,応用/電気音響,信号処理,及び一般)
• 静電型超音波トランスデューサのダンピング効果(音声,応用音響,一般,音声,応用/電気音響,信号処理,及び一般)
• 静電型超音波トランスデューサのダンピング効果(音声,応用音響,一般,音声,応用/電気音響,信号処理,及び一般)
• 集積化触覚センサ用NiCrゲージ薄膜の抵抗温度係数の低減
• SnO_2ガスセンサによる臭い識別の検討(半導体エレクトロニクス)
• 構造的応力制御によるSiO_2ダイアフラム上圧電型超音波マイクロセンサの感度変化
• 1-10P-57 パリレンを用いた送受兼用可能なアレイ型マイクロ超音波センサ(ポスターセッション 1)
• 形を感じる : 超音波マイクロアレイセンサ
• 共振周波数の異なる超音波マイクロセンサによるフェイズドアレイを用いた物体位置計測
• マイクロ超音波アレイセンサを用いた三次元計測 (小特集 超音波センサ)
• 圧電薄膜を用いた超音波マイクロアレイセンサと共振周波数チューニング(圧電デバイス・材料,強誘電体材料,有機エレクトロニクス,一般)
• MEMS : バーチャルを支える小さな巨人
• ゾルゲル水熱処理によるPZT膜の低温作製
• 化学溶液法によるマルチフェロイックBiFeO_3薄膜の作製と特性評価
• レーザーアブレーション法によるSr_2(Ta_, Nb_x)_2O_7薄膜の低温作製と電気的特性
• Sr_Bi_Ta_2O_9薄膜を用いたMFIS構造の電気的特性
• Sr_1-XBi_, Ta_2O_9薄膜を用いたMFIS構造の電気的特性
• MOD法によるBST薄膜を用いた20GHz帯チューナブル移相器とその360度デジタルPHEMT IC移相器への応用
• MOD法によるBST薄膜を用いた20GHz帯チューナブル移相器とその360度デジタルPHEMT IC移相器への応用(ミリ波技術/一般)
• MOD法によるBST薄膜を用いた20GHz帯チューナブル移相器とその360度デジタルPHEMT IC移相器への応用(ミリ波技術/一般)
• 誘電体薄膜研究の最近の進歩
• 第2回日韓強誘電体会議
• 25pYJ-2 ピコメータで制御されたBiFeO_3格子の巨大分極(強誘電体格子系の精密制御法と新物性,領域10シンポジウム,領域10,誘電体,格子欠陥,X線・粒子線,フォノン物性)
• 実践的研究教育としてのインターンシップの取り組み
• 21pYN-5 マルチフェロイックBiFeO_3薄膜の作製と評価(領域10シンポジウム : 強誘電体薄膜および界面における新しい現象とその応用,領域10(誘電体,格子欠陥,X線・粒子線,フォノン物性))
• 強誘電体薄膜を用いた電子デバイス
• レーザーアブレーション法による高誘電率ZrO_2薄膜の作製とその評価
• TC-3-7 水素およびアルコールのSnO_2(001)および(100)表面上吸着の分子軌道解析
• 強誘電体薄膜研究の最近の展開
• 強誘電体薄膜の分極反転ダイナミクス : 格子モデルを用いた分極反転機構の現象論的解析
• 1T型強誘電体メモリ用MFIS構造のRTA処理による記憶保持特性の改善(物性,成膜,加工,プロセス : 強誘電体薄膜とデバイス応用)
• 強誘電体ゲート電界効果トランジスタメモリーのための強誘電体-絶縁体-半導体構造 : メモリー保持特性の解析と改善
• MFISおよびMIFIS構造のメモリ保持特性の解析
• 蛍光・偏光・波長変調を用いた差分撮像
• PZT薄膜の圧電性評価
• 圧電薄膜を用いた超音波マイクロアレイセンサと共振周波数チューニング(圧電デバイス・材料,強誘電体材料,有機エレクトロニクス,一般)
• 圧電薄膜を用いた超音波マイクロアレイセンサと共振周波数チューニング(圧電デバイス・材料,強誘電体材料,有機エレクトロニクス,一般)
• 圧電薄膜を用いた超音波マイクロアレイセンサと共振周波数チューニング(圧電デバイス・材料,強誘電体材料,有機エレクトロニクス,一般)
• 強誘電体薄膜の結晶成長(第13回結晶成長国際会議(ICCG-13/ICVGE-11))
• レーザーアブレーション法によるAgTa_Nb_O_3強誘電体薄膜のエピタキシャル成長と結晶評価
• レーザアブレーション法によるBi系層状強誘電体薄膜の作製 -SrBi_2Ta_2O_9とBi_4Ti_3O_薄膜-
• Si(100)表面の清浄化とフッ素処理効果の赤外反射吸収分光法による評価
• レーザアブレーション法によるBi系層状強誘電体薄膜の作製 : SrBi_2Ta_2O_9とBi_4Ti_3O_薄膜
• 誘電ボロメータ型非冷却赤外線イメージセンサの開発
• 誘電ボロメータ方式赤外線センサの開発
• 表面窒化SiO_2バッファ層を有するMFIS構造(新型不揮発性メモリ)
• 表面窒化SiO_2バッファ層を有するMFIS構造
• ゾル-ゲル-水熱処理法による機能性酸化物薄膜の低温作製 : 高集積センサ・アクチュエータ, メモリ用Si ULSIモノリシックプロセスへの展開
• 界面伝導電流を用いた強誘電体ゲートFETメモリの考案(新型不揮発性メモリー)
• 平坦性の異なるSi(111)表面のフォトレフレクタンス評価
• プラズマ損傷Siのフォトレフレクタンス分光法によるin-situ評価
• 強誘電体薄膜の最近の展開
• PMN-PTセラミックからのパルス電界誘起電子放出
• 酸化物強誘電体薄膜とデバイス応用
• 強誘電体薄膜とセンサ
• 強誘電体メモリー
• マイクロ波励起光源の開発
• フォトレフレクタンス分光法の高感度化に関する研究
• 水素終端Si(111)表面の大気中初期酸化のAFM観察とその分子軌道解析
• 水素および種々のアルコールに対するガスセンサの応答特性
• SnO_2(001)および(100)表面への水素およびアルコール吸着の分子軌道法解析
• Si(111)表面とF_2分子反応過程の分子軌道解析
• マイクロカンチレバー型触覚センサアレイによる把持状態の識別手法
• 1P1-O04 パリレンを用いた送受兼用可能なコンデンサ型MEMS超音波センサの開発(MEMSとナノテクノロジー)
• NiCrゲージ薄膜の抵抗温度係数低減によるカンチレバー型触覚センサの高分解能化
• 球・円柱表面形状を用いた動的表面テクスチャ計測多軸触覚センサ
• 2A2-O12 マイクロカンチレバー型触覚センサアレイを用いた回転滑りの検出手法(触覚と力覚(1))

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