レーザアブレーション法によるBi系層状強誘電体薄膜の作製 : SrBi_2Ta_2O_9とBi_4Ti_3O_<12>薄膜
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概要
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- 1995-11-14
著者
-
奥山 雅則
大阪大学大学院基礎工学研究科
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奥山 雅則
大阪大学基礎工学研究科
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奥山 雅則
大阪大学基礎工学部電気工学科
-
奥山 雅則
大阪大学 大学院基礎工学研究科
-
浜川 圭弘
立命館大学大学院
-
浜川 圭弘
大阪大学基礎工学部
-
浜川 圭弘
大阪大学 基礎工学部
-
呉 文彪
大阪大学
-
奥山 雅則
阪大基礎工
-
大石 嘉弘
大阪大学
-
大石 嘉弘
大阪大学 基礎工学部 電気工学科
-
呉 文彪
大阪大学 基礎工学部 電気工学科
-
麓 圭吾
大阪大学 基礎工学部 電気工学科
-
奥山 雅則
大阪大学 基礎工学研究科
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