レーザーアブレーション法によるAgTa_<0.38>Nb_<0.62>O_3強誘電体薄膜のエピタキシャル成長と結晶評価

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概要

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• 2001-12-14

著者

• 奥山 雅則

  大阪大学大学院基礎工学研究科

• 奥山 雅則

  大阪大学

• 渋谷 明

  大阪大学

• KOH Jung-Hyuk

  王立工科大学

• GRISHIN Alex

  王立工科大学

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