レーザアブレーション法によるBi系層状強誘電体薄膜の作製 -SrBi_2Ta_2O_9とBi_4Ti_3O_<12>薄膜-
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概要
著者
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奥山 雅則
大阪大学大学院基礎工学研究科
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奥山 雅則
大阪大学基礎工学研究科
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奥山 雅則
大阪大学
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奥山 雅則
大阪大学基礎工学部電気工学科
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浜川 圭弘
立命館大学大学院
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浜川 圭弘
大阪大学基礎工学部
-
浜川 圭弘
大阪大学 基礎工学部
-
浜川 圭弘
大阪大学
-
呉 文彪
大阪大学
-
奥山 雅則
阪大基礎工
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大石 嘉弘
大阪大学
-
松室 好則
大阪大学
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松室 好則
大阪大学基礎工学研究科物理系専攻機能材料デバイス講座
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奥山 雅則
大阪大学 基礎工学研究科
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