藤本 晶 | 和歌山工高専
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概要
関連著者
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藤本 晶
和歌山工高専
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金島 岳
大阪大学
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藤本 晶
和歌山工業高等専門学校
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奥山 雅則
大阪大学大学院基礎工学研究科
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奥山 雅則
大阪大学基礎工学研究科
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金島 岳
大阪大学大学院基礎工学研究科
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奥山 雅則
大阪大学大学院 基礎工学研究科 ナノサイエンスデザイン教育研究センター
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江利口 浩二
松下電子工業 (株) 半導体社プロセス開発センター
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奥山 雅則
大阪大学基礎工学部電気工学科
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奥山 雅則
阪大基礎工
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寒川 雅之
大阪大学大学院基礎工学研究科
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江利口 浩二
松下電器産業(株)
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和田 秀夫
大阪大学大学院基礎工学研究科物理系専攻機能材料デバイス講座
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奥山 雅則
大阪大学 基礎工学研究科
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藤本 晶
和歌山高専電気情報工学科
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阿形 眞司
大阪大学大学院基礎工学研究科物理系専攻機能材料デバイス講座
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奥山 雅則
大阪大学
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浜川 圭弘
立命館大学大学院
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浜川 圭弘
大阪大学基礎工学部
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浜川 圭弘
大阪大学 基礎工学部
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今井 崇明
大阪大学基礎工学部電気工学科
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金島 岳
大阪大学大学院基礎工学研究科物理系専攻
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寒川 雅之
大阪大学基礎工学研究科
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金島 岳
大阪大学基礎工学研究科
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吉田 真人
大阪大学基礎工学研究科電子光科学領域
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多田 泰三
大阪大学基礎工学研究科電子光科学領域
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毎田 修
大阪大学大学院基礎工学研究科物理系専攻機能材料デバイス講座
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多田 泰三
大阪大学大学院基礎工学研究科
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勝見 栄雄
大阪大学基礎工学部電気工学科
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毎田 修
大阪大学
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徳田 将敏
和歌山工業高等専門学校電気情報工学科
著作論文
- PRSによるHigh-kゲート絶縁膜中の固定電荷の評価(シリコン関連材料の作製と評価)
- フォトレフレクタンス分光法によるSiの表面応力の非接触・非破壊評価
- フォトレフレクタンス分光法によるゲート酸化膜に導入されたチャージングダメージの光学的評価(半導体Si及び関連電子材料評価)
- SnO_2ガスセンサによる臭い識別の検討(半導体エレクトロニクス)
- TC-3-7 水素およびアルコールのSnO_2(001)および(100)表面上吸着の分子軌道解析
- フォトレフレクタンス分光法による初期酸化時Si表面の評価
- フォトレフレクタンス分光法によるSi表面温度の非接触計測
- 平坦性の異なるSi(111)表面のフォトレフレクタンス評価
- プラズマ損傷Siのフォトレフレクタンス分光法によるin-situ評価
- 極薄酸化膜およびプラズマ損傷のあるSi表面の光学的評価
- フォトレフレクタンス分光法の高感度化に関する研究
- フォトレフレクタンス分光法によるSi表面温度の非接触計測
- 表面損傷を有するSiウエハの反射分光法による評価
- フォトレフレクタンス分光法による初期酸化時のSi表面の評価
- プラズマ損傷を受けたSiのフォトレフレクタンス分光法によるその場(in-situ)評価
- ゲート酸化膜に導入されたチャージングダメージの光学的評価
- 水素および種々のアルコールに対するガスセンサの応答特性
- SnO_2(001)および(100)表面への水素およびアルコール吸着の分子軌道法解析
- フォトレフレクタンス法によるSiウエハの平坦性の評価
- 香りセンサの研究--市販ガスセンサによるみかんの香り判別の試み
- カルボキシル臭に対するSnO2ガスセンサの応答特性
- アミノ臭に対するSnO2ガスセンサの応答特性
- 水素およびアルコールに対するガスセンサの表面反応解析
- 半導体ガスセンサの表面反応の解析
- 半導体センサによる臭い識別の基礎的検討
- C++言語による半導体の光学的評価装置制御用プログラムの作成
- 量子井戸構造の電子状態の解析
- 5-218 高専電気系学科における専門学科教員による低学年からの数学授業(オーガナイズドセッション:大学全入時代の工学教育-II,口頭発表)