毎田 修 | 大阪大学
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概要
関連著者
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奥山 雅則
大阪大学大学院基礎工学研究科
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金島 岳
大阪大学
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毎田 修
大阪大学
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金島 岳
大阪大学大学院基礎工学研究科
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毎田 修
大阪大学産業科学研究所セラミック機能材料分野
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大橋 治彦
(財)高輝度光科学研究センター
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高馬 悟覚
大阪大学大学院基礎工学研究科物理系専攻機能材料デバイス講座
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大橋 治彦
高輝度光科学研究センター放射光研究所
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高馬 悟覚
大阪大学
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上野 正人
大阪大学大学院基礎工学研究科物理系専攻機能材料デバイス講座
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北井 聡
大阪大学大学院基礎工学研究科物理系専攻機能材料デバイス講座
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奥山 雅則
大阪大学
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奥山 雅則
大阪大学大学院 基礎工学研究科 ナノサイエンスデザイン教育研究センター
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寒川 雅之
大阪大学大学院基礎工学研究科
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金島 岳
大阪大学基礎工学研究科
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奥山 雅則
大阪大学基礎工学研究科
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奥本 雅規
大阪大学大学院基礎工学研究科物理系専攻機能材料デバイス講座
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阿形 真司
大阪大学
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弓達 新治
大阪大学
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藤本 晶
和歌山工業高等専門学校
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江利口 浩二
松下電子工業 (株) 半導体社プロセス開発センター
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阿形 眞司
大阪大学大学院基礎工学研究科物理系専攻機能材料デバイス講座
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毎田 修
大阪大学大学院基礎工学研究科物理系専攻機能材料デバイス講座
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藤本 晶
和歌山工高専
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上野 正人
大阪大学基礎工学研究科物理系機能材料デバイス講座
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北井 聡
大阪大学基礎工学研究科物理系機能材料デバイス講座
著作論文
- 軟X線アブレーションによるPTFE低誘電率膜の作製
- SPing-8アンジュレータ光によるSiO_2膜の軟X線エッチングとSiの酸化・窒化
- Figure-8 アンジュレータによるSiO_2膜の軟X線エッチングおよび評価
- フォトレフレクタンス分光法によるゲート酸化膜に導入されたチャージングダメージの光学的評価(半導体Si及び関連電子材料評価)
- レーザーアブレーション法による高誘電率ZrO_2薄膜の作製とその評価