還元雰囲気下でのゲート電極形成プロセスによるHfO_2膜の初期絶縁破壊(ゲート絶縁膜,容量膜,機能膜及びメモリ技術)

スポンサーリンク

概要

著者

関連論文

もっと見る

スポンサーリンク