高誘電体ゲート絶縁膜の開発と材料科学
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概要
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いよいよ本格的な開発が始まろうとしている高誘電体ゲート絶縁膜について, CMOS技術への適用という観点から要求される基本的物性についてまず概観し, 続いて材料科学的な観点からそれぞれの性質の意味について議論する.高誘電体ゲート絶縁膜に要求されることは, 誘電率の高さだけではなく, 使われる場合を想定した物性を備えたものでなくてはならない.そのためには, 従来シリコン酸化膜で培ってきた多くの知恵と知識を使いこなし, 多くの観点から科学的に開発していかなくてはならない.その意味で, 材料科学という中ではいうまでもなく, 表面科学, 電子工学とも根本的な部分での結び付きが重要である.
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 2001-02-01
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