GeO2/Ge界面反応の理解に基づくGeO2膜物性の劣化現象の制御 (シリコン材料・デバイス)
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概要
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- 2010-06-22
著者
-
鳥海 明
東京大学大学院
-
喜多 浩之
東京大学大学院光学系研究科マテリアル工学専攻
-
王 成凱
東京大学大学院光学系研究科マテリアル工学専攻
-
李 忠賢
東京大学大学院光学系研究科マテリアル工学専攻
-
吉田 まほろ
東京大学大学院光学系研究科マテリアル工学専攻
-
西村 知紀
東京大学大学院光学系研究科マテリアル工学専攻
-
長汐 晃輔
東京大学大学院光学系研究科マテリアル工学専攻
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