次世代ULSI用歪シリコンウェーハの開発(2004先端半導体デバイスの基礎と応用に関するアジア太平洋会議)
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概要
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我々は、2001〜2003年度に渡って、次世代ULSIに利用可能な高品質歪Siウェーハの開発を目的としてプロジェクトを推進した。得られた成果の概要を報告する。
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 2004-06-23
著者
-
中島 寛
九州大学産学連携センター
-
中島 寛
先端科学技術共同研究センター
-
浅野 種正
九州工業大学 マイクロ化総合技術センター
-
宮尾 正信
九州大学大学院システム情報科学
-
浅野 種正
九州大学大学院システム情報科学研究院
-
萩野 浩靖
福菱セミコンエンジニアリング(株)
-
Asano Tanemasa
Center For Microelectronics Systems Kyushu Institute Of Technology
-
中島 寛
九大 産学連携セ
-
中前 正彦
三菱住友シリコン(株)
-
大串 英世
(独)産業技術総合研究所ダイヤモンド研究センター
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