Electrical and Structural Properties of TaN Gate Electrodes Fabricated by Wet Etching Using NH_4OH/H_2O_2 Solution and Hf Metal Hard Mask
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概要
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- Japan Society of Applied Physicsの論文
- 2007-03-25
著者
-
中島 寛
九州大学産学連携センター
-
中島 寛
先端科学技術共同研究センター
-
NAKASHIMA Hiroshi
Art, Science and Technology Center for Cooperative Research, Kyushu University
-
SUGIMOTO Youhei
Interdisciplinary Graduate School of Engineering Sciences, Kyushu University
-
YAMAMOTO Keisuke
Interdisciplinary Graduate School of Engineering Sciences, Kyushu University
-
Sugimoto Youhei
Interdisciplinary Graduate School Of Engineering Sciences Kyushu University
-
中島 寛
九大 産学連携セ
-
Yamamoto Keisuke
Kyushu Univ. Fukuoka Jpn
-
Yamamoto Keisuke
Interdisciplinary Graduate School Of Engineering Sciences Kyushu University
-
山本 圭介
九州大学大学院総合理工学府
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