ECRプラズマを活用した高品質絶縁膜の低温形成(有機ELとTFT(シリコン,化合物,有機)及びディスプレイ技術)
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概要
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ECRプラズマを有効に活用することにより、界面特性および絶縁特性の優れた絶縁膜が低温で形成できること、並びに緻密で応力の低いSiON絶縁膜が有機EL用保護膜に適していることを述べる。
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 2003-04-08
著者
-
中島 寛
九州大学産学連携センター
-
中島 寛
九州大学先端科学技術共同研究センター
-
王 俊利
九州大学先端科学技術共同研究センター
-
趙 麗巍
九州大学先端科学技術共同研究センター
-
中島 寛
先端科学技術共同研究センター
-
中島 寛
九大 産学連携セ
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