有機物のイオン照射改質によるマイクロコールドエミッタ材料の創製
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概要
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ノボラック系フォトレジストおよびポリイミドにイオンビームを照射して改質し、炭素系のコールドエミッタ材料を創製する方法について述べる。イオンの物理的効果で有機材料が炭素-炭素結合をもつように改質され、導電性が発現する。Ar イオンの場合、約 10^16cm^-2 の照射で蒸着炭素膜と同程度の抵抗をもつ材料が生成される。ピラミッド状あるいはコーン状に加工したこれら有機材料をイオンビームで改質したチップから、ダイヤモンド状炭素と同程度に低電界で電子放出が得られ、また優れた電流安定性を示す。有機材料の特徴を活かした新しいコールドエミッタの作製法として、スタンプ法を提案する。
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 1999-03-04
著者
-
馬場 昭好
九州工業大学 マイクロ化総合技術センター
-
浅野 種正
九州工業大学 マイクロ化総合技術センター
-
比嘉 勝也
九州工業大学マイクロ化総合技術センター
-
馬場 昭好
九州工業大学マイクロ化総合技術センター
-
馬場 昭好
九州工業大学
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