混載メモリ応用へ向けた相制御Ni-FUSI/HfSiONゲートスタックのインテグレーション技術
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概要
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- 2008-05-14
著者
-
小倉 卓
Necエレクトロニクス株式会社
-
小倉 卓
(株)genusion
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辰巳 徹
日本電気株式会社 シリコンシステム研究所
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高橋 健介
日本電気株式会社
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砂村 潤
Nec基礎・環境研究所:科学技術振興機構
-
砂村 潤
日本電気株式会社
-
白井 浩樹
NECエレクトロニクス株式会社先端デバイス開発事業部
-
渡辺 啓仁
日本電気株式会社
-
西藤 哲史
日本電気株式会社
-
増崎 幸治
日本電気株式会社
-
間部 謙三
日本電気株式会社
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辰巳 徹
日本電気株式会社
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白井 浩樹
Necエレクトロニクス株式会社
-
砂村 潤
ルネサスエレクトロニクス先行研究統括部
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