HfO_2/SiO_2界面の熱安定性のHAADF-STEM評価 : Hf分布の定量的測定と拡散係数の決定
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概要
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- 日本表面科学会の論文
- 2007-11-10
著者
-
五十嵐 信行
NEC(株)システムデバイス研究所
-
五十嵐 信行
日本電気(株)システムデバイス研究所
-
五十嵐 信行
日本電気株式会社システムデバイス研究所
-
渡部 宏治
日本電気株式会社システムデバイス研究所
-
増崎 幸治
日本電気株式会社
-
五十嵐 信行
NECデバイスプラットフォーム研究所
-
渡部 宏治
NECデバイスプラットフォーム研究所
-
増崎 幸治
NECデバイスプラットフォーム研究所
-
中川 隆史
NECデバイスプラットフォーム研究所
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