0.13μm世代における超高速混載DRAM技術の開発 (半導体デバイス特集) -- (基盤技術)

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概要

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著者

• 白井 浩樹

  NECエレクトロニクス株式会社先端デバイス開発事業部

• 白井 浩樹

  ルネサスエレクトロニクス生産本部

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