シリコンナノ構造でのパターン依存酸化現象の観察

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概要

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• 日本表面科学会の論文
• 2002-09-10

著者

• 藤原 聡

  Ntt物性科学基礎研究所

• 藤原 聡

  日本電信電話(株)NTT物性科学基礎研究所

• 永瀬 雅夫

  Ntt物性科学基礎研究所

• 高橋 庸夫

  北大

• 高橋 庸夫

  日本電信電話株式会社NTT物性科学基礎研究所

• 永瀬 雅夫

  日本電信電話(株)ntt物性科学基礎研究所

• 高橋 庸夫

  北海道大学 大学院情報科学研究科

• 生津 英夫

  日本電信電話株式会社 NTT物性科学基礎研究所

• 栗原 健二

  NTTアドバンステクノロジ株式会社

• 高橋 庸夫

  北海道大学情報科学研究科

• 永瀬 雅夫

  Ntt 物性科学基礎研

• 生津 英夫

  Ntt 物性科学基礎研

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