SiO_2中の拡散に与えるSi/SiO_2界面の影響

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概要

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• 2005-05-10

著者

• 伊藤 公平

  慶応大理工

• 影島 博之

  NTT物性基礎研

• 藤原 聡

  Ntt物性科学基礎研究所

• 高橋 庸夫

  NTT物性基礎研

• 植松 真司

  NTT物性科学基礎研究所

• 白石 賢二

  筑波大学物理学系

• 高橋 庸夫

  北大

• 白石 賢二

  筑波大物理

• 高橋 庸夫

  北海道大学 大学院情報科学研究科

• 伊藤 公平

  慶應義塾大学理工学部物理情報工学科

• 植松 真司

  慶応義塾大学大学院理工学研究科

• 深津 茂人

  Ntt物性科学基礎研究所

• 高橋 庸夫

  北海道大学情報科学研究科

• 深津 茂人

  慶應義塾大学理工学部

• 伊藤 公平

  慶應義塾大学理工学部

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