マンガンをイオン注入したSOI層の磁気特性(機能ナノデバイス及び関連技術)
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概要
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極薄のSOI層にMnをイオン注入し熱処理を施した試料を作製し、その構造と組成をHigh Angular Dark Field Scanning Transmission Electron Microscope(HAADF-STEM)、Atomic Force Microscope(AFM)、Energy Dispersive X-ray Spectrometer(EDX)により、また磁気特性をSuperconduction quantum interference device(SQUID) magnetometorにより評価した。これまで行ってきたバルクシリコンへの注入の場合と同様に、熱処理後にMnシリサイド微粒子が形成され、その粒径が熱処理温度とともに増大することを確認した。また、系の磁性は、常磁性が支配的であるが、超常磁性的な振る舞いを示す成分も観測され、その強度は強い熱処理温度依存性を示した。さらに、水酸化カリウム溶液を用いることにより、SOI層表面をエッチングしてMnシリサイド微粒子を残留させることができることを見出し、シリコンの部分エッチング後も磁化が強く残留することを示した。このことは、超常磁性がMnシリサイド、特にMnシリサイド表面に起因していることを強く示唆している。
- 2009-02-19
著者
-
太田 英二
慶應義塾大学
-
影島 博之
NTT物性基礎研
-
永瀬 雅夫
NTT物性基礎研
-
藤原 聡
Ntt物性科学基礎研究所
-
小野 行徳
NTT物性科学基礎研究所
-
宮崎 康晶
NTT物性科学基礎研究所
-
永瀬 雅夫
Ntt物性科学基礎研究所
-
宮崎 康晶
Ntt物性科学基礎研究所:慶應義塾大学大学院理工学研究科
-
太田 英二
慶應義塾大学大学院理工学研究科
-
永瀬 雅夫
Ntt 物性科学基礎研
-
小野 行徳
Ntt
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