19pRC-3 SiO_2/Si/SiO_2量子井戸に閉じ込められた二次元電子系における電気抵抗の温度依存性(量子細線・量子井戸,領域4,半導体,メゾスコピック系・局在)

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概要

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• 社団法人日本物理学会の論文
• 2007-02-28

著者

• 平山 祥郎

  東北大理

• 藤澤 利正

  NTT物性基礎研

• 藤原 聡

  Ntt物性科学基礎研究所

• 新井田 佳孝

  NTT物性科学基礎研究所

• 高品 圭

  NTT物性科学基礎研究所

• レナー バンソン

  NTT物性科学基礎研究所

• 平山 祥郎

  東北大理:erato-jst

• 藤澤 利正

  東工大極低温セ

• 新井田 佳孝

  東北大理

• 高品 圭

  バース大物理

• 藤沢 利正

  Ntt 基礎研

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