21aWH-9 SiO_2/Si(100)界面でのSi輸送過程(表面界面ダイナミクス,領域9,表面・界面,結晶成長)

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概要

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• 社団法人日本物理学会の論文
• 2007-02-28

著者

• 秋山 亨

  三重大工

• 伊藤 智徳

  三重大工

• 影島 博之

  NTT物性基礎研

• 秋山 亨

  三重大学大学院工学研究科

• 植松 真司

  NTT物性科学基礎研究所

• 植松 真司

  慶応義塾大学大学院理工学研究科

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