20pPSA-41 外部電場印加によるダイヤモンド表面の誘起電荷とフェルミ面の制御(20pPSA 領域9 ポスターセッション,領域9(表面・界面,結晶成長)

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概要

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• 2012-08-24

著者

• 中村 浩次

  三重大工

• 伊藤 智徳

  三重大工

• 秋山 亨

  三重大学大学院工学研究科

• 佐野 和博

  三重大工

• 伊藤 智徳

  三重大学大学院工学研究科

• 伊藤 智徳

  NTT LSI研究所

• 秋山 享

  三重大工

• 杉山 愛一郎

  三重大工

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