技術トレンド アメリカを中心とするゲート絶縁膜用High-k材料の最新技術動向
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概要
著者
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大見 俊一郎
東京工業大学
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大見 俊一郎
東京工業大学総合理工学研究科
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大見 俊一郎
東京工業大学・総合理工学研究科
-
岩井 洋
東工大フロンティア研
-
岩井 洋
東京工業大学フロンティア創造共同研究センター
-
大見 俊一郎
東京工業大学大学院総合理工学研究科
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岩井 洋
(株)東芝研究開発センターulsi研究所
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