シリコンデバイスの微細化と性能限界
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概要
著者
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岩井 洋
東京工業大学フロンティア創造共同研究センター
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百瀬 寿代
(株)東芝セミコンダクタ社SoC研究開発センター
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岩井 洋
(株)東芝
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岩井 洋
(株)東芝研究開発センターulsi研究所
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百瀬 寿代
(株)東芝研究開発センターulsi研究所
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百瀬 寿代
(株)東芝 研究開発センター デバイスプロセス開発センター 高性能CMOSデバイス技術開発部
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