1.5nm酸化膜 MOSFET
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概要
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デバイスの高性能化、低電圧化のために、ゲート酸化膜の薄膜化が加速されつつあり、最近では、直接トンネル漏れ電流限界を越えて3nm以下の酸化膜の検討が盛んになされている。本論文では、1.5nmのゲート酸化膜を例にとり、そのMOSFEの性能、特性ばらつき、信頼性等について紹介し、極薄酸化膜MOSFETのメリット、問題点を明らかにする。
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 1998-04-24
著者
-
勝又 康弘
(株)東芝 セミコンダクター社 システムLSI開発センター
-
中村 新一
(株)東芝研究開発センター
-
岩井 洋
東工大フロンティア研
-
岩井 洋
東京工業大学フロンティア創造共同研究センター
-
勝又 康弘
(株)東芝セミコンダクタ社
-
百瀬 寿代
(株)東芝セミコンダクタ社SoC研究開発センター
-
中村 新一
(株)東芝
-
岩井 洋
(株)東芝
-
岩井 洋
(株)東芝研究開発センターulsi研究所
-
百瀬 寿代
(株)東芝研究開発センターulsi研究所
-
百瀬 寿代
(株)東芝 研究開発センター デバイスプロセス開発センター 高性能CMOSデバイス技術開発部
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