Si基板上におけるFe_3Si薄膜のエピタキシャル成長と評価
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概要
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- 2005-04-15
著者
-
宮尾 正信
九州大学大学院システム情報科学
-
佐道 泰造
九州大学大学院システム情報科学
-
権丈 淳
九州大学大学院システム情報科学
-
佐道 泰造
Kyushu Univ. Fukuoka Jpn
-
竹内 悠
九州大学大学院システム情報科学研究院
-
竹内 悠
九州大学大学院システム情報科学府電子デバイス工学専攻
-
Kenjo A
Kyushu Univ.
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