シリサイド半導体薄膜の結晶成長と特性(2)Ge導入によるβ-FeSi2のバンドギャップ変調 (特集 シリサイド半導体の最新動向)

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概要

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著者

• 佐道 泰造

  Kyushu Univ. Fukuoka Jpn

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