Horiike Yasuhiro | Faculty Of Engineering Hiroshima University

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概要

• 同名の論文著者
• Faculty Of Engineering Hiroshima Universityの論文著者

関連著者

• 堀池 靖浩

  物質･材料研究機構

• HORIIKE Yasuhiro

  Department of Electrical Engineering, Toyo University

• Shindo H

  Department Of Electronics Faculty Of Engineering Hiroshima University

• 堀池 靖浩

  物質・材料研究機構

• 堀池 靖浩

  科学技術振興事業団戦略的基礎研究推進事業 科学技術振興事業団

• Shindo H

  Tokai Univ. Hiratsuka Jpn

• Shindo Haruo

  Faculty of Agriculture, Yamaguchi University

• Shindo H

  Samsung Yokohama Res. Inst. Yokohama Jpn

• Shindo H

  Yamaguchi Univ. Yamaguchi Jpn

• Horiike Yasuhiro

  Faculty of Engineering, Toyo University

• 堀池 靖浩

  東洋大学工学部

• Shindo Haruo

  Department Of Applied Physics Tokai University

• 一木 隆範

  東洋大学・工

• SAKAUE Hiroyuki

  Department of Electrical Engineering, Hiroshima University

• Nakamura A

  Faculty Of Pharmacy And Parmaceutical Sciences Fukuyama University

• SAKAUE Hiroyuki

  Graduate School of Advanced Sciences of Matter, Hiroshima University

• 高村 禅

  北陸先端科学技術大学院大学マテリアルサイエンス研究科

• 高村 禅

  北陸先端科学技術大学院大学

• 新宮原 正三

  Hiroshima University Graduate School Of Adsm

• 高村 禅

  北陸先端大

• 堀池 靖浩

  東京大学大学院工学系研究科

• ICHIKI Takanori

  the Department of Electric and Electronic Engineering, Tokyo University

• HASHIMOTO Tetsuro

  Faculty of Engineering, Hiroshima University

• ICHIKI Takanori

  Department of Electrical & Electronics Engineering, Toyo University

• Baba Yoshinobu

  Department Of Applied Chemistry Graduate School Of Engineering Mext Innovative Research Center For P

• 高井 まどか

  東京大学大学院工学系研究科マテリアル工学専攻

• 進藤 春雄

  東海大学工学部応用物理学科

• 進藤 春雄

  東海大 工

• Shingubara Shoso

  Department of Electrical Engineering, Hiroshima University

• Takamura Yuzuru

  Department Of Materials Science School Of Engineering The University Of Tokyo

• CHINZEI Yasuhiko

  Department of Electrical & Electronics Engineering, Tokyo University

• 堀池 靖浩

  (独)物質・材料研究機構

• Kikuchi J

  Axiomatic Inc. Tokyo Jpn

• 一木 隆範

  東洋大学工学部電気電子工学科

• Fujii Takashi

  Department Of Cardiology Hiroshima General Hospital

• 高村 禅

  東京大学大学院工学研究科

• Kubota Kazuhiro

  Department of Electrical Engineering, Hiroshima University

• FUKASAWA Takayuki

  Department of Electrical Engineering, Hiroshima University

• NAKAMURA Akihiro

  Department of Electrical Engineering, Hiroshima University

• ICHIHASHI Hideki

  Faculty of Engineering, Hiroshima University

• HIROSE Masataka

  Department of Electrical Engineering, Hiroshima University

• Fujii Toru

  General R&d Lab. Taiyo Yuden Co. Ltd.

• Ueda Masanori

  Department Of Medicinal Chemistry Faculty Of Pharmaceutical Sciences The University Of Tokushima

• Baba Yoshinobu

  Department Of Applied Chemistry Graduate School Of Engineering Nagoya University

• KIKUCHI Toshiaki

  Department of Electrical & Electronics Engineering, Toyo University

• Kubota K

  Department Of Biological And Chemical Engineering Faculty Of Technology Gunma University

• Kikuchi T

  Department Of Applied Chemistry Faculty Of Science Science University Of Tokyo

• FUJII Syuitsu

  ADTEC Co., Ltd.

• FUJII Takashi

  Central Research Institute of Electric Power Industry

• Fujii Syuitsu

  Adtec Co. Ltd.

• Fujii T

  Toyohashi Univ. Technol. Toyohashi Jpn

• Shindo Haruo

  Faculty Of Engineering Fukuyama University

• 安藤 真

  東京工業大学 電気電子工学専攻

• 岡田 健一

  東京工業大学大学院理工学研究科電子物理工学専攻

• 安藤 真

  東京工業大学

• 山本 哲也

  山形大学

• 石井 信雄

  東京エレクトロン(株)

• 益 一哉

  東京工業大学

• 石井 信雄

  東京エレクトロン

• 加地 範匡

  名古屋大学

• 安井 隆雄

  名古屋大学

• 上田 正則

  Jst‐crest

• 石井 信雄

  東エレ

• 岡本 行広

  名古屋大学

• 山本 哲也

  東京工業大学

• 堀池 靖浩

  東洋大学

• 堀池 靖浩

  東大院工

• YAMAMOTO Jin

  Process Equipment Engineering Div., Canon Sales Co., Inc.

• KAWAMURA Katsufumi

  Process Equipment Division, Canon Sales Corporation

• 岡田 健一

  東京工業大学

• 沖 明男

  東京大学大学院工学系研究科

• 小川 洋輝

  東京大学大学院工学系研究科

• Kawamura K

  Process Equipment Division Canon Sales Corporation

• JIWARI Nobuhiro

  Department of Electrical Engineering, Hiroshima University

• NARAI Akira

  Department of Electrical Engineering, Hiroshima University

• KOTO Makoto

  Department of Electrical Engineering, Hiroshima University

• NARAI Akira

  Faculty of Engineering, Hiroshima University

• AMASAKI Fumitake

  Faculty of Engineeringm, Hiroshima University

• SANO ATSUSHI

  Department of Cardiothoracic Surgery, The University of Tokyo Graduate School of Medicine

• Koto Makoto

  Department Of Electrical Engineering Hiroshima University

• Ogawa Hiroki

  Precess Development Division C850 Fujitsu Limited

• Yamamoto J

  Process Equipment Engineering Div. Canon Sales Co. Inc.

• 上田 正則

  科技団・crest

• 山本 達也

  東京工業大学 工学部 電気電子工学科

• 渡慶次 学

  名古屋大学

• 馬場 嘉信

  名古屋大学

• 堂寺 知成

  放送大・埼玉

• 堂寺 知成

  京大院工

• ASAMI Kumiko

  The Institute of Scientific and Industrial Research, Osaka University

• HORIIKE Yasuhiro

  Toshiba Research and Development Center

• KIKUCHI Jun

  Manufacturing Technology Division, Fujitsu Ltd.

• NAGASAKA Mitsuaki

  Manufacturing Technology Division, Fujitsu Ltd.

• FUJIMURA Shuzo

  Process Development Division, Fujitsu Ltd.

• YANO Hiroshi

  Manufacturing Technology Division, Fujitsu Ltd.

• Fujimura Shuzo

  Precess Development Division C850 Fujitsu Limited

• Fujimura Shuzo

  Process Development Division Fujitsu Ltd.

• Fujimura Shuzo

  Process Development Div. C850 Fujitsu Ltd.

• 菊池 俊秋

  東洋大学工学部電気電子工学科

• 深澤 孝之

  東京大学大学院工学系研究科

• 岡本 行広

  名古屋大学大学院工学研究科化学・生物工学専攻

• 加地 範匡

  名古屋大学大学院工学研究科化学・生物工学専攻

• 渡慶次 学

  名古屋大学大学院工学研究科化学・生物工学専攻

• 馬場 嘉信

  名古屋大学大学院工学研究科化学・生物工学専攻

• 坪内 和夫

  東北大学電気通信研究所

• 石原 一彦

  東京大学工学系研究科マテリアル工学専攻

• 高村 禅

  東大院工

• 後藤 尚久

  拓殖大学工学部

• 石原 一彦

  東京大学大学院工学系研究科

• 高橋 応明

  武蔵工業大学電子通信工学科

• 馬場 嘉信

  徳島大薬

• Fujii Takashi

  Department Of Medicine And Clinical Science Yamaguchi University Graduate School Of Medicine

• 後藤 尚久

  東京工業大学工学部電気電子工学科

• 一木 隆範

  東京大学大学院工学系研究科 バイオエンジニアリング専攻

• 吉木 宏之

  鶴岡工業高等専門学校電気電子工学科

• 苫米地 秀一

  東北大学電気通信研究所

• 小柳 光正

  東北大学大学院工学研究科機械知能工学専攻知能システム設計学研究室

• 広瀬 全孝

  産業技術総合研究所

• 菊地 純

  富士通(株)

• 堂寺 知成

  放送大学埼玉学習センター

• 益 一哉

  東北大学電気通信研究所

• 葛巻 徹

  東京大学工学系研究科

• 葛巻 徹

  東京大学大学院工学系研究科

• KUSABA Kouta

  Department of Applied Physics, Tokai University

• SHINDO Haruo

  Department of Applied Physics, Tokai University

• KOROMOGAWA Takashi

  Department of Applied Physics, Tokai University

• NAGATA Takahiro

  Department of Applied Materials Science, Graduate School of Engineering, Osaka Prefecture University

• 葛巻 徹

  東京大学大学院工学系研究科マテリアル工学専攻

• 斧田 博之

  東京大学大学院工学系研究科

• 藤村 修三

  一橋大イノベーション研

• 菅原 弘雄

  東京工業大学精密工学研究所

• Koromogawa T

  Tokai Univ. Hiratsuka Jpn

• Koromogawa Takashi

  Department Of Applied Physics Tokai University

• YAMASHITA Akihito

  Department of Applied Physics, Tokai University

• Matsumoto Hiroyuki

  Department of Electrical Engineering, Toyo University

• Fukasawa Takayuki

  Faculty of Engineering, Fukuyama University

• Nakamura Akihiro

  Faculty of Engineering, Hiroshima University

• FUKASAWA Takayuki

  2nd Development Engineering Dept., Tokyo Electron Yamanshi Limited

• NOUDA Tatuki

  Department of Electrical Engineering, Hiroshima University

• IWASAWA Hiroaki

  Department of Electrical Engineering, Hiroshima University

• SHOJI Tatsuo

  Plasma Science Center, Nagoya University

• 矢野 弘

  富士通(株)製造技術開発部

• Nagai Masao

  Adbic In. Corp. Ibaraki Jpn

• Hirose Minoru

  Process Development Division Fujitsu Limited

• Miyazaki S

  Hiroshima Univ. Higashi‐hiroshima Jpn

• Kusaba K

  Tokai Univ. Hiratsuka Jpn

• Kusaba Kouta

  Department Of Applied Physics Tokai University

• Nagata Tetsuya

  Hitachi Research Laboratory Hitachi Ltd.

• Miyazaki Seiichi

  Department Of Electrical Engineering Hiroshima University

• Miyazaki Seiichi

  Dept. Of Electrical Engineering Hiroshima University

• 吉木 宏之

  Tsuruoka National College Of Technology

• 葉山 哲也

  東大院・工

• 高村 禅

  東大院・工

• 堀池 靖浩

  東大院・工

• 馬場 嘉信

  科技団・CREST

• Sakaue Hiroyuki

  Hiroshima University, Graduate School of ADSM

• Shingubara Shoso

  Hiroshima University, Graduate School of ADSM

• KOBAYASHI YASUO

  Department of Dentistry Oral Surgery, Nagano Municipal Hospital

• YOKOYAMA Seiji

  School of Material Science, Japan Advanced Institute of Science and Technology

• 藤村 修三

  富士通(株)

• AOYAGI Hitoshi

  Department of Applied Physics, Tokai University

• OGATA Makoto

  Department of Electrical & Electronics Engineering, Tokyo University

• SUNADA Tsuyoshi

  Research and Development Division, ULVAC Japan Ltd.

• ITOH Masahiro

  Research and Development Division, ULVAC Japan Ltd.

• HAYASHI Toshio

  Research and Development Division, ULVAC Japan Ltd.

• ITATANI Ryohei

  Niihama National College of Technology

• KUROSAKI Ryo

  Manufacturing Technology Division, Fujitsu Ltd.

• KIKUCHI Jyun

  Manufacturing Technology Division, Fujitsu Ltd.

• IKEGAMI Naokatsu

  VLSI R〓D Center, Oki Electric Industry Co., Ltd.

• FUKAZAWA Takayuki

  2nd Development Engineering Dpt, Tokyo Electron

• YOKOYAMA Shin

  Research Center for Nanodevices and Systems, Hiroshima University

• Aoyagi Hitoshi

  Department Of Applied Physics Tokai University

• Yokoyama Seiji

  School Of Material Science Japan Advanced Institute Of Science And Technology

• HAYAMA Tetsuya

  Department of Materials Science, School of Engineering, The University of Tokyo

• TANIGUCHI Kazutake

  Department of Materials Science, School of Engineering, The University of Tokyo

• TAKAI Madoka

  Department of Materials Engineering, The University of Tokyo

• ITO Yoshitaka

  Research & Development Center, Shindengen Kogyo Corp.

• OKI Akio

  the Department of Materials Science, The University of Tokyo

• TAKAMURA Yuzuru

  the Department of Materials Science, The University of Tokyo

• FUKASAWA Takayuki

  the Department of Materials Science, The University of Tokyo

• OGAWA Hiroki

  the Department of Materials Science, The University of Tokyo

• HORIIKE Yasuhiro

  the Department of Materials Science, The University of Tokyo

• NAMBA Tohru

  Research Center for Integrated Systems, Hiroshima University

• HIROSE Masataka

  Research Center for Integrated Systems, Hiroshima University

• Miyake Kouji

  Research Center for Integrated Systems, Hiroshima University

• Koyanagi Mitsumasa

  Research Center for Integrated Systems, Hiroshima University

• Hashimoto Kenji

  Research Center for Integrated Systems, Hiroshima University

• Horiike Yasuhiro

  Research Center for Integrated Systems, Hiroshima University

• 新橋 里美

  科学技術振興事業団

• 小川 洋輝

  科学技術振興事業団

• 長井 政雄

  科学技術振興事業団

• 長坂 光明

  富士通(株)製造技術開発部

• HORIIKE Yasuhiro

  Electrical & Electronics Engineering, Toyo University

• 小澤 正則

  東洋大学工学部電気電子工学科

• 藤村 修三

  富士通株式会社

• 藤村 修三

  富士通基礎プロセス開発部

• 鎮西 康彦

  東洋大学工学部電気電子工学科

• 堀岡 啓治

  AMJ株式会社

• 後藤 尚久

  東京工大

• 後藤 尚久

  東京工業大学

• 山岸 幸義

  東洋大学工学部

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著作論文

• ラジアルラインスロットアンテナを用いた大口径均一プラズマの生成
• ラジアルラインスロットアンテナを用いたプラズマエッチング装置
• ナノピラー構造体が電気浸透流に及ぼす影響の評価
• 極微量全血分離・分析を目指したヘルスケアチップの創製
• Negative Ion Assisted Silicon Oxidation in Downstream of Microwave Plasma
• Measurement of Fluorocarbon Radicals Generated from C_4F_8/H_2 Inductively Coupled Plasma : Study on SiO_2 Selective Etching Kinetics
• RF Selfbias Voltage and Sheath Width in Inductively Coupled Chlorine Plasma
• Microloading Effect in Highty Selective Si0_2 Contact Hole Etching Employing Inductively Coupled Plasma
• Effect of Magnetic Field to Etching Characteristics of Inductively Coupled Plasma ( Plasma Processing)
• High Rate and Highly Selective SiO_2 Etching Employing Inductively Coupled Plasma
• RF Self-Bias Characteristics in Inductively Coupled Plasma
• Al Etching Characteristics Ernploying Helicon Wave Plasma
• Si Etching Employing Steady-State Magnetron Plasma with Magnet at Anode Centered in a Cylindrical Reactor
• Compact Electron Cyclotron Resonance Plasma-Etching Reactor Employing Permanent Magnet : Etching
• Compact Electron Cyclotron Resonance Plasma-Etching Reactor Employing Permanent Magnet
• Si Etching with Low Ion Energy in Low-Pressure Electron Cyclotron Resonance Plasma Generated by Longitudinal and Multipole Magnetic Fields
• High Etch Rate Modes in Microwave Plasma Etching of Silicon in High Magnetic Fields : Etching and Deposition Technology
• High Etch Rate Modes in Microwave Plasma Etching of Silicon in High Magnetic Fields
• ナノポアを通過する長鎖DNAのイメージング解析 : DNAの核膜孔通過過程のモデリングを目指して
• 18pYF-11 マイクロ・ナノチップ中における長鎖DNAのダイナミクスの解析
• カーボンナノチューブフィールドエミッターのI-V特性と先端構造
• Gap-filling of Cu Employing Sustained Self-Sputtering with Inductively Coupled Plasma Ionization
• Enhancement of Negative-Ion-Assisted Silicon Oxidation by Radio-Frequency Bias
• Floating Potential in Negative-Ion-Containing Plasma
• Development and Plasma Characteristics Measurement of Planar-Type Magnetic Neutral Loop Discharge Etcher
• Highly Selective SiO_2/Si Etching and Related Kinetics in Time-Modulated Helicon Wave Plasma
• SiO_2 Etching Employing Inductively Coupled Plasma with Hot Inner Wall
• In-Situ X-Ray Photoelectron Spectroscopy of Reactive-Ion-Etched Surfaces of Indium-Tin Oxide Film Employing Alcohol Gas
• Fluorescence Emission Control of Long DNA Molecules Adsorbed on microelectrode Surfaces by External Voltage
• Molecular Detection in a Microfluidic Device by Streaming Current Measurements
• Translocation of a Long DNA Chain Passing Through a Nanofabricated Pore
• Study on Elemental Technologies for Creation of Healthcare Chip Fabricated on Polyethylene Terephthalate Plate
• 水素+水蒸気プラズマダウンフローへのNF_3添加によるシリコン表面の自然酸化膜除去
• テトラフルオロエチルトリフルオロメチルエーテル(HFE 227)への有機シラン添加による高選択比・高アスペクト比酸化膜エッチング
• Fabrication and Evaluation of Three-Dimensional Optically Coupled Common Memory
• 多項目同時測定ヘルスケアチップ用マイクログルコースセンサーの創製
• Cleaning of Silicon Surfaces by NF_3-Added Hydrogen and Water-Vapor Plasma Downstream Treatment
• Cleaning of Silicon Surfaces by NF_3 Added Hydrogen and Water Vapor Plasma Downstream Treatment
• 2.4GHzフロントエンドAlN/α-Al_2O_3 SAWマッチトフィルタ
• 高齢化社会の到来とヘルスケアチップの創製 : ドライエッチング技術の展開
• 日々の健康管理 -ヘルスケアデバイスの創製-
• プラズマプロセスによるバイオチップの開発と展望
• 大気圧マイクロプラズマジェットの微細加工への応用
• VHF駆動によるマイクロプラズマの生成技術とマイクロ化学分析システムへの応用
• 高アスペクト比ULSIエッチング技術
• 5.最近のトピックス : 5.2フッ素,塩素負イオン生成とSi,SiO_2とのエッチング反応 : 負イオンを見直そう(負イオン特集)
• プロセス用プラズマの制御最前線 (制御されたプロセス用プラズマを目指して--その現状と将来展望)
• Electron Energy Control in Inductively Coupled Plasma Employing Multimode Antenna
• Thin Film Detection Employing Frequency Shift in Sheath Current Oscillation
• Excitation of Sheath Oscillating Current by Superimposing Pulse Voltage
• Atomic Layer Controlled Digital Etching of Silicon : Etching and Deposition Technology
• Atomic Layer Controlled Digital Etching of Silicon
• Fabrication of Quartz Microcapillary Electrophoresis Chips Using Plasma Etching
• Gap-Filling of Cu Employing Self-Sustained Sputtering with ICP Ionization
• 負イオンプラズマによるシリコンエッチング
• 4. 高密度RFプラズマによる高速・高選択比SiO_2エッチングと反応機構 (ドライエッチング用プラズマ)
• Silicon Etching Employing Negative Ion in SF_6 Plasma
• 半導体製造用プロセシングプラズマ(期待されるブレイクスルー)
• Sheath Width in Negative-Ion-Containing Plasma
• Emissive Probe Study of CF_4/H_2 Etching Plasma
• 容量結合型大気圧マイクロプラズマ源
• 医療
• Development of Clinical Chips for Home Medical Diagnostics
• 在宅で健康診断できるヘルスケアチップの開発 (特集 診断バイオチップの未来)
• μ-TAS応用によるバイオセンサ式ヘルスケアチップ (特集 流体MEMSのすべて--マイクロ流体デバイスの応用展開とその実用化)
• 産学独連携により2009年115WのEUV光源を実現
• 無痛針採血による在宅健康診断チップ
• 医療用バイオチップの現状と将来展望
• B-5-145 in vivoワイヤレス通信チップ用送受信回路に関する研究(B-5.無線通信システムA(移動通信))
• B-1-16 in vivo ワイヤレス通信チップ用アンテナに関する研究 : 電磁波の人体透過特性
• Study on Reaction Mechanism of Aluminum Selective Chemical Vapor Deposition with In-situ XPS Measurement : Etching and Deposition Technology
• Study on Reaction Mechanism of Aluminum Selective Chemical Vapor Deposition with In-situ XPS Measurement
• Resistance Oscillations Induced by Direct Current Electromigration
• Diagnostics of Hydrogen Role in the Si Surface Reaction Processes Employing In-situ Fourier Transform Infrared-Attenuated Total Reflection : Beam Induced Physics and Chemistry
• Diagnostics of Hydrogen Role in the Si Surface Reaction Processes Employing In-situ Fourier Transform Infrared-Attenuated Total Reflection
• High-Rate Bias Sputtering Filling of SiO2 Film Employing Both Continuous Wave and Time-Modulated Inductively Coupled Plasmas
• Miniaturized Capillary Electrophoresis Fabricated on Pyrex Glass Chips Using Deep Dry Etching and Anodic Bonding
• Single Silicon Etching Profile Simulation
• Radiation Damage Evaluation in Excimer Laser Beam Irradiation and Reactive Ion Etching
• Excimer Laser Photochemical Directional Etching of Phosphorous Doped Poly-Crystalline Silicon
• Photo-Excited Etching of Poly-Crystalline and Single-Crystalline Silicon in Cl_2 Atmosphere
• 新しい装置創りから未知なるものの発見
• ULSI高アスペクト比SiO_2エッチング技術の現状と展望
• ナノ構造体を用いた無標識検出
• 表面反応研究のより一層の促進を
• 高密度プラズマによるエッチングプロセス(最新のプラズマプロセス技術)
• Downstream Etching of Si and SiO_2 Employing CF_4/O_2 or NF_3/O_2 at High Temperature : Etching and Deposition Technology
• Electromigration Characteristics of Cu-Al Precipitate in AlCu Interconnection
• Sputtering of Aluminum Film Using Microwave Plasma with High Magnetic Field
• Application of Photoexcited Reaction to VLSI Process (Special Issue on Opto-Electronics and LSI)
• Downstream Etching of Si and SiO2 Employing CF4/O2 or NF3/O2 at High Temperature

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