堀池 靖浩 | 東洋大学工学部

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概要

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• 同名の論文著者
• 東洋大学工学部の論文著者

関連著者

• 堀池 靖浩

  東洋大学工学部

• 堀池 靖浩

  物質･材料研究機構

• Horiike Yasuhiro

  Faculty Of Engineering Toyo University

• Horiike Yasuhiro

  National Institute For Materials Science

• Horiike Yasuhiro

  Faculty Of Engineering Hiroshima University

• Horiike Yasuhiro

  Department Of Electrical Engineering Toyo University

• 堀池 靖浩

  広島大工

• Horiike Yasuhiro

  Research Center For Integrated Systems Hiroshima University:(present Address)department Of Electrica

• 進藤 春雄

  東海大学工学部応用物理学科

• 進藤 春雄

  東海大 工

• Horiike Yasuhiro

  Toshiba Vlsi Research Center

• Horiike Yasuhiro

  Department Of Electrical Engineering Hiroshima University

• 堀池 靖浩

  (株)東芝

• 一木 隆範

  東洋大学・工

• 堀池 靖浩

  東大院工

• 堀池 靖浩

  東芝超lsi研:現広大工

• 堀池 靖浩

  東大院工学系研究科

• 一木 隆範

  東洋大学工学部電気電子工学科

• 一木 隆範

  東洋大学工学部:科技団戦略的創造研究事業presto

• 堀池 靖浩

  物質・材料研究機構 情報通信材料研究領域

• 堀池 靖浩

  東洋大学工学部電気電子工学科

• 堀池 靖浩

  物質・材料研究機構 生体材料研究センター

• 堀池 靖浩

  極端紫外線露光システム技術開発機構(euva)

• 堀池 靖浩

  広島大学工学部第二類 (電気系)

• 安藤 真

  東京工業大学 電気電子工学専攻

• 高橋 応明

  武蔵工業大学電子通信工学科

• 安藤 真

  東京工業大学

• 山本 哲也

  山形大学

• 石井 信雄

  東京エレクトロン(株)

• 後藤 尚久

  東京工業大学工学部電気電子工学科

• 石井 信雄

  東京エレクトロン

• 堀池 靖浩

  東京大

• 石井 信雄

  東エレ

• 菊地 純

  富士通(株)

• 山本 哲也

  東京工業大学

• 藤村 修三

  一橋大イノベーション研

• 矢野 弘

  富士通(株)製造技術開発部

• 山本 達也

  東京工業大学 工学部 電気電子工学科

• 柳澤 道彦

  スピードファム

• 飯田 進也

  スピードファム

• 藤村 修三

  富士通(株)

• 長坂 光明

  富士通(株)製造技術開発部

• 小澤 正則

  東洋大学工学部電気電子工学科

• 藤村 修三

  富士通株式会社

• 藤村 修三

  富士通基礎プロセス開発部

• 鎮西 康彦

  東洋大学工学部電気電子工学科

• 菊池 俊秋

  東洋大学工学部電気電子工学科

• 堀岡 啓治

  AMJ株式会社

• 後藤 尚久

  東京工業大学

• 藤村 修三

  東工大

• 柴山 利一

  東洋大学工学部

• 高柳 智士

  東洋大学工学部

• 高橋 応明

  武蔵工業大学 工学部 電子通信工学科

• 高橋 応明

  武蔵工業大学 工学部

• 佐和 芳夫

  福山大学工学部

• 藤村 修三

  東京工業大学

• Ishii Nobuo

  Corporate R&D Central Research Laboratory, Tokyo Electron Ltd. 650 Mitsuzawa, Hosaka-cho, Nirasaki, Yamanashi 407-0192, Japan

• Ishii Nobuo

  Corporate R&D Central Research Laboratory, Tokyo Electron Limited, Hosaka-cho, Nirasaki 407-01, Japan

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著作論文

• ラジアルラインスロットアンテナを用いたプラズマエッチング装置
• SF_6プラズマによるシリコンウェーハの超精密加工
• 水素+水蒸気プラズマダウンフローへのNF_3添加によるシリコン表面の自然酸化膜除去
• テトラフルオロエチルトリフルオロメチルエーテル(HFE 227)への有機シラン添加による高選択比・高アスペクト比酸化膜エッチング
• 5.最近のトピックス : 5.2フッ素,塩素負イオン生成とSi,SiO_2とのエッチング反応 : 負イオンを見直そう(負イオン特集)
• 負イオンプラズマによるシリコンエッチング
• 4. 高密度RFプラズマによる高速・高選択比SiO_2エッチングと反応機構 (ドライエッチング用プラズマ)
• 反応性ドライエッチングと表面反応化学(表面と化学反応)
• 新しい装置創りから未知なるものの発見
• ULSI高アスペクト比SiO_2エッチング技術の現状と展望
• 表面反応研究のより一層の促進を
• 高密度プラズマによるエッチングプロセス(最新のプラズマプロセス技術)

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