Horiike Yasuhiro | Faculty Of Engineering Toyo University

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概要

• 同名の論文著者
• Faculty Of Engineering Toyo Universityの論文著者

関連著者

• 堀池 靖浩

  物質･材料研究機構

• Horiike Yasuhiro

  Faculty Of Engineering Toyo University

• Horiike Yasuhiro

  Department Of Electrical Engineering Toyo University

• Horiike Yasuhiro

  National Institute For Materials Science

• Horiike Yasuhiro

  Faculty Of Engineering Hiroshima University

• Horiike Yasuhiro

  Department Of Electrical & Electronics Engineering Tokyo University

• Horiike Yasuhiro

  Research Center For Integrated Systems Hiroshima University:(present Address)department Of Electrica

• Horiike Yasuhiro

  Toshiba Vlsi Research Center

• Horiike Yasuhiro

  Department Of Electrical Engineering Hiroshima University

• Horiike Yasuhiro

  Department Of Materials Science University Of Tokyo

• 堀池 靖浩

  物質・材料研究機構

• 堀池 靖浩

  科学技術振興事業団戦略的基礎研究推進事業 科学技術振興事業団

• HORIIKE Yasuhiro

  Department of Electrical Engineering, Toyo University

• Horiike Yasuhiro

  Department Of Materials Engineering School Of Engineering The University Of Tokyo

• Shindo H

  Tokai Univ. Hiratsuka Jpn

• Shindo H

  Department Of Electronics Faculty Of Engineering Hiroshima University

• Shindo H

  Yamaguchi Univ. Yamaguchi Jpn

• 堀池 靖浩

  東洋大学工学部

• 一木 隆範

  東洋大学・工

• Shindo Haruo

  Department Of Applied Physics Tokai University

• 高村 禅

  北陸先端科学技術大学院大学マテリアルサイエンス研究科

• 高村 禅

  北陸先端科学技術大学院大学

• 高村 禅

  北陸先端大

• 堀池 靖浩

  東京大学大学院工学系研究科

• ICHIKI Takanori

  Department of Electrical & Electronics Engineering, Toyo University

• ICHIKI Takanori

  the Department of Electric and Electronic Engineering, Tokyo University

• Shindo H

  Samsung Yokohama Res. Inst. Yokohama Jpn

• Shindo Haruo

  Faculty of Agriculture, Yamaguchi University

• Baba Yoshinobu

  Department Of Applied Chemistry Graduate School Of Engineering Mext Innovative Research Center For P

• 高井 まどか

  東京大学大学院工学系研究科マテリアル工学専攻

• 進藤 春雄

  東海大学工学部応用物理学科

• 新宮原 正三

  Hiroshima University Graduate School Of Adsm

• 進藤 春雄

  東海大 工

• Nakamura A

  Faculty Of Pharmacy And Parmaceutical Sciences Fukuyama University

• Takamura Yuzuru

  Department Of Materials Science School Of Engineering The University Of Tokyo

• 堀池 靖浩

  (独)物質・材料研究機構

• 一木 隆範

  東洋大学工学部電気電子工学科

• 高井 まどか

  東大 大学院工学系研究科

• Horiike Yasuhiro

  Department Of Materials Science The University Of Tokyo

• Fujii Takashi

  Department Of Cardiology Hiroshima General Hospital

• 高村 禅

  東京大学大学院工学研究科

• FUKASAWA Takayuki

  Department of Electrical Engineering, Hiroshima University

• NAKAMURA Akihiro

  Department of Electrical Engineering, Hiroshima University

• Fujii Toru

  General R&d Lab. Taiyo Yuden Co. Ltd.

• Ueda Masanori

  Department Of Medicinal Chemistry Faculty Of Pharmaceutical Sciences The University Of Tokushima

• Baba Yoshinobu

  Department Of Applied Chemistry Graduate School Of Engineering Nagoya University

• SAKAUE Hiroyuki

  Graduate School of Advanced Sciences of Matter, Hiroshima University

• KIKUCHI Toshiaki

  Department of Electrical & Electronics Engineering, Toyo University

• Kikuchi T

  Department Of Applied Chemistry Faculty Of Science Science University Of Tokyo

• FUJII Syuitsu

  ADTEC Co., Ltd.

• CHINZEI Yasuhiko

  Department of Electrical & Electronics Engineering, Tokyo University

• FUJII Takashi

  Central Research Institute of Electric Power Industry

• Fujii Syuitsu

  Adtec Co. Ltd.

• Fujii T

  Toyohashi Univ. Technol. Toyohashi Jpn

• 安藤 真

  東京工業大学 電気電子工学専攻

• 岡田 健一

  東京工業大学大学院理工学研究科電子物理工学専攻

• 安藤 真

  東京工業大学

• 山本 哲也

  山形大学

• 石井 信雄

  東京エレクトロン(株)

• 益 一哉

  東京工業大学

• 石井 信雄

  東京エレクトロン

• 加地 範匡

  名古屋大学

• 安井 隆雄

  名古屋大学

• 上田 正則

  Jst‐crest

• 石井 信雄

  東エレ

• 岡本 行広

  名古屋大学

• 山本 哲也

  東京工業大学

• 堀池 靖浩

  東洋大学

• 堀池 靖浩

  東大院工

• 岡田 健一

  東京工業大学

• 沖 明男

  東京大学大学院工学系研究科

• 小川 洋輝

  東京大学大学院工学系研究科

• Kubota Kazuhiro

  Department of Electrical Engineering, Hiroshima University

• Shingubara Shoso

  Department of Electrical Engineering, Hiroshima University

• SANO ATSUSHI

  Department of Cardiothoracic Surgery, The University of Tokyo Graduate School of Medicine

• Ogawa Hiroki

  Precess Development Division C850 Fujitsu Limited

• 上田 正則

  科技団・crest

• 山本 達也

  東京工業大学 工学部 電気電子工学科

• 渡慶次 学

  名古屋大学

• 馬場 嘉信

  名古屋大学

• 堂寺 知成

  放送大・埼玉

• Kubota K

  Department Of Biological And Chemical Engineering Faculty Of Technology Gunma University

• 堂寺 知成

  京大院工

• TANIGUCHI Kazutake

  Department of Materials Science, School of Engineering, The University of Tokyo

• Kikuchi J

  Axiomatic Inc. Tokyo Jpn

• 菊池 俊秋

  東洋大学工学部電気電子工学科

• 深澤 孝之

  東京大学大学院工学系研究科

• 岡本 行広

  名古屋大学大学院工学研究科化学・生物工学専攻

• 加地 範匡

  名古屋大学大学院工学研究科化学・生物工学専攻

• 渡慶次 学

  名古屋大学大学院工学研究科化学・生物工学専攻

• 馬場 嘉信

  名古屋大学大学院工学研究科化学・生物工学専攻

• 坪内 和夫

  東北大学電気通信研究所

• 石原 一彦

  東京大学工学系研究科マテリアル工学専攻

• 高村 禅

  東大院工

• 後藤 尚久

  拓殖大学工学部

• 石原 一彦

  東京大学大学院工学系研究科

• 高橋 応明

  武蔵工業大学電子通信工学科

• 馬場 嘉信

  徳島大薬

• Fujii Takashi

  Department Of Medicine And Clinical Science Yamaguchi University Graduate School Of Medicine

• 後藤 尚久

  東京工業大学工学部電気電子工学科

• 一木 隆範

  東京大学大学院工学系研究科 バイオエンジニアリング専攻

• 吉木 宏之

  鶴岡工業高等専門学校電気電子工学科

• 苫米地 秀一

  東北大学電気通信研究所

• 小柳 光正

  東北大学大学院工学研究科機械知能工学専攻知能システム設計学研究室

• 菊地 純

  富士通(株)

• 堂寺 知成

  放送大学埼玉学習センター

• 益 一哉

  東北大学電気通信研究所

• 葛巻 徹

  東京大学工学系研究科

• 葛巻 徹

  東京大学大学院工学系研究科

• KUSABA Kouta

  Department of Applied Physics, Tokai University

• SHINDO Haruo

  Department of Applied Physics, Tokai University

• KOROMOGAWA Takashi

  Department of Applied Physics, Tokai University

• NAGATA Takahiro

  Department of Applied Materials Science, Graduate School of Engineering, Osaka Prefecture University

• 葛巻 徹

  東京大学大学院工学系研究科マテリアル工学専攻

• 斧田 博之

  東京大学大学院工学系研究科

• 藤村 修三

  一橋大イノベーション研

• 菅原 弘雄

  東京工業大学精密工学研究所

• Koromogawa T

  Tokai Univ. Hiratsuka Jpn

• Koromogawa Takashi

  Department Of Applied Physics Tokai University

• YAMASHITA Akihito

  Department of Applied Physics, Tokai University

• Fukasawa Takayuki

  Faculty of Engineering, Fukuyama University

• Nakamura Akihiro

  Faculty of Engineering, Hiroshima University

• Horiike Yasuhiro

  Faculty of Engineering, Toyo University

• FUKASAWA Takayuki

  2nd Development Engineering Dept., Tokyo Electron Yamanshi Limited

• JIWARI Nobuhiro

  Department of Electrical Engineering, Hiroshima University

• NOUDA Tatuki

  Department of Electrical Engineering, Hiroshima University

• SAKAUE Hiroyuki

  Department of Electrical Engineering, Hiroshima University

• HIROSE Masataka

  Department of Electrical Engineering, Hiroshima University

• 矢野 弘

  富士通(株)製造技術開発部

• Nagai Masao

  Adbic In. Corp. Ibaraki Jpn

• Hirose Minoru

  Process Development Division Fujitsu Limited

• Miyazaki S

  Hiroshima Univ. Higashi‐hiroshima Jpn

• Kusaba K

  Tokai Univ. Hiratsuka Jpn

• Kusaba Kouta

  Department Of Applied Physics Tokai University

• Nagata Tetsuya

  Hitachi Research Laboratory Hitachi Ltd.

• Miyazaki Seiichi

  Department Of Electrical Engineering Hiroshima University

• Miyazaki Seiichi

  Dept. Of Electrical Engineering Hiroshima University

• 吉木 宏之

  Tsuruoka National College Of Technology

• 葉山 哲也

  東大院・工

• 高村 禅

  東大院・工

• 堀池 靖浩

  東大院・工

• 馬場 嘉信

  科技団・CREST

• Sakaue Hiroyuki

  Hiroshima University, Graduate School of ADSM

• Shingubara Shoso

  Hiroshima University, Graduate School of ADSM

• YOKOYAMA Seiji

  School of Material Science, Japan Advanced Institute of Science and Technology

• 藤村 修三

  富士通(株)

• AOYAGI Hitoshi

  Department of Applied Physics, Tokai University

• OGATA Makoto

  Department of Electrical & Electronics Engineering, Tokyo University

• SUNADA Tsuyoshi

  Research and Development Division, ULVAC Japan Ltd.

• ITOH Masahiro

  Research and Development Division, ULVAC Japan Ltd.

• HAYASHI Toshio

  Research and Development Division, ULVAC Japan Ltd.

• ITATANI Ryohei

  Niihama National College of Technology

• KUROSAKI Ryo

  Manufacturing Technology Division, Fujitsu Ltd.

• KIKUCHI Jyun

  Manufacturing Technology Division, Fujitsu Ltd.

• IKEGAMI Naokatsu

  VLSI R〓D Center, Oki Electric Industry Co., Ltd.

• FUKAZAWA Takayuki

  2nd Development Engineering Dpt, Tokyo Electron

• YOKOYAMA Shin

  Research Center for Nanodevices and Systems, Hiroshima University

• Aoyagi Hitoshi

  Department Of Applied Physics Tokai University

• Yokoyama Seiji

  School Of Material Science Japan Advanced Institute Of Science And Technology

• HAYAMA Tetsuya

  Department of Materials Science, School of Engineering, The University of Tokyo

• TAKAI Madoka

  Department of Materials Engineering, The University of Tokyo

• ITO Yoshitaka

  Research & Development Center, Shindengen Kogyo Corp.

• OKI Akio

  the Department of Materials Science, The University of Tokyo

• TAKAMURA Yuzuru

  the Department of Materials Science, The University of Tokyo

• FUKASAWA Takayuki

  the Department of Materials Science, The University of Tokyo

• OGAWA Hiroki

  the Department of Materials Science, The University of Tokyo

• HORIIKE Yasuhiro

  the Department of Materials Science, The University of Tokyo

• NAMBA Tohru

  Research Center for Integrated Systems, Hiroshima University

• HIROSE Masataka

  Research Center for Integrated Systems, Hiroshima University

• Miyake Kouji

  Research Center for Integrated Systems, Hiroshima University

• Koyanagi Mitsumasa

  Research Center for Integrated Systems, Hiroshima University

• Hashimoto Kenji

  Research Center for Integrated Systems, Hiroshima University

• Horiike Yasuhiro

  Research Center for Integrated Systems, Hiroshima University

• 新橋 里美

  科学技術振興事業団

• 小川 洋輝

  科学技術振興事業団

• 長井 政雄

  科学技術振興事業団

• 長坂 光明

  富士通(株)製造技術開発部

• KIKUCHI Jun

  Manufacturing Technology Division, Fujitsu Ltd.

• NAGASAKA Mitsuaki

  Manufacturing Technology Division, Fujitsu Ltd.

• FUJIMURA Shuzo

  Process Development Division, Fujitsu Ltd.

• YANO Hiroshi

  Manufacturing Technology Division, Fujitsu Ltd.

• HORIIKE Yasuhiro

  Electrical & Electronics Engineering, Toyo University

• 小澤 正則

  東洋大学工学部電気電子工学科

• Fujimura Shuzo

  Precess Development Division C850 Fujitsu Limited

• Fujimura Shuzo

  Process Development Division Fujitsu Ltd.

• Fujimura Shuzo

  Process Development Div. C850 Fujitsu Ltd.

• 藤村 修三

  富士通株式会社

• 藤村 修三

  富士通基礎プロセス開発部

• 鎮西 康彦

  東洋大学工学部電気電子工学科

• 堀岡 啓治

  AMJ株式会社

• 後藤 尚久

  東京工大

• 後藤 尚久

  東京工業大学

• Shindo Haruo

  Faculty Of Engineering Fukuyama University

• 山岸 幸義

  東洋大学工学部

• 沖 明男

  (独)物質・材料研究機構

• 小川 洋輝

  (独)物質・材料研究機構

• 百瀬 俊

  ローム(株)

• 横川 昭徳

  ローム(株)

• Nagasaka Mitsuaki

  Manufacturing Technology Division Fujitsu Ltd.

• Horiike Yasuhiro

  National Inst. For Materials Sci. Ibaraki Jpn

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著作論文

• ラジアルラインスロットアンテナを用いた大口径均一プラズマの生成
• ラジアルラインスロットアンテナを用いたプラズマエッチング装置
• ナノピラー構造体が電気浸透流に及ぼす影響の評価
• 極微量全血分離・分析を目指したヘルスケアチップの創製
• Negative Ion Assisted Silicon Oxidation in Downstream of Microwave Plasma
• RF Selfbias Voltage and Sheath Width in Inductively Coupled Chlorine Plasma
• Microloading Effect in Highty Selective Si0_2 Contact Hole Etching Employing Inductively Coupled Plasma
• Effect of Magnetic Field to Etching Characteristics of Inductively Coupled Plasma ( Plasma Processing)
• High Rate and Highly Selective SiO_2 Etching Employing Inductively Coupled Plasma
• RF Self-Bias Characteristics in Inductively Coupled Plasma
• ナノポアを通過する長鎖DNAのイメージング解析 : DNAの核膜孔通過過程のモデリングを目指して
• 18pYF-11 マイクロ・ナノチップ中における長鎖DNAのダイナミクスの解析
• カーボンナノチューブフィールドエミッターのI-V特性と先端構造
• Gap-filling of Cu Employing Sustained Self-Sputtering with Inductively Coupled Plasma Ionization
• Enhancement of Negative-Ion-Assisted Silicon Oxidation by Radio-Frequency Bias
• Development and Plasma Characteristics Measurement of Planar-Type Magnetic Neutral Loop Discharge Etcher
• Highly Selective SiO_2/Si Etching and Related Kinetics in Time-Modulated Helicon Wave Plasma
• SiO_2 Etching Employing Inductively Coupled Plasma with Hot Inner Wall
• Fluorescence Emission Control of Long DNA Molecules Adsorbed on microelectrode Surfaces by External Voltage
• Molecular Detection in a Microfluidic Device by Streaming Current Measurements
• Translocation of a Long DNA Chain Passing Through a Nanofabricated Pore
• Study on Elemental Technologies for Creation of Healthcare Chip Fabricated on Polyethylene Terephthalate Plate
• 水素+水蒸気プラズマダウンフローへのNF_3添加によるシリコン表面の自然酸化膜除去
• テトラフルオロエチルトリフルオロメチルエーテル(HFE 227)への有機シラン添加による高選択比・高アスペクト比酸化膜エッチング
• Fabrication and Evaluation of Three-Dimensional Optically Coupled Common Memory
• 多項目同時測定ヘルスケアチップ用マイクログルコースセンサーの創製
• Cleaning of Silicon Surfaces by NF_3 Added Hydrogen and Water Vapor Plasma Downstream Treatment
• 2.4GHzフロントエンドAlN/α-Al_2O_3 SAWマッチトフィルタ
• 高齢化社会の到来とヘルスケアチップの創製 : ドライエッチング技術の展開
• 日々の健康管理 -ヘルスケアデバイスの創製-
• プラズマプロセスによるバイオチップの開発と展望
• 大気圧マイクロプラズマジェットの微細加工への応用
• VHF駆動によるマイクロプラズマの生成技術とマイクロ化学分析システムへの応用
• 高アスペクト比ULSIエッチング技術
• 5.最近のトピックス : 5.2フッ素,塩素負イオン生成とSi,SiO_2とのエッチング反応 : 負イオンを見直そう(負イオン特集)
• An atmospheric-pressure microplasma jet source for the optical emission spectroscopic analysis of liquid sample
• Localized and ultrahigh-rate etching of silicon wafers using atmospheric-pressure microplasma jets
• Etching Reactivity of Negative Ions Generated in Cl_2 Downstream Plasma
• Electron Energy Control in Inductively Coupled Plasma Employing Multimode Antenna
• Thin Film Detection Employing Frequency Shift in Sheath Current Oscillation
• Excitation of Sheath Oscillating Current by Superimposing Pulse Voltage
• Fabrication of Quartz Microcapillary Electrophoresis Chips Using Plasma Etching
• Gap-Filling of Cu Employing Self-Sustained Sputtering with ICP Ionization
• 負イオンプラズマによるシリコンエッチング
• 4. 高密度RFプラズマによる高速・高選択比SiO_2エッチングと反応機構 (ドライエッチング用プラズマ)
• Silicon Etching Employing Negative Ion in SF_6 Plasma
• Localized Removal of a Photoresist by Atmospheric Pressure Micro-plasma Jet Using RF Corona Discharge
• 容量結合型大気圧マイクロプラズマ源
• 医療
• Development of Clinical Chips for Home Medical Diagnostics
• 在宅で健康診断できるヘルスケアチップの開発 (特集 診断バイオチップの未来)
• μ-TAS応用によるバイオセンサ式ヘルスケアチップ (特集 流体MEMSのすべて--マイクロ流体デバイスの応用展開とその実用化)
• 産学独連携により2009年115WのEUV光源を実現
• 無痛針採血による在宅健康診断チップ
• 医療用バイオチップの現状と将来展望
• B-5-145 in vivoワイヤレス通信チップ用送受信回路に関する研究(B-5.無線通信システムA(移動通信))
• B-1-16 in vivo ワイヤレス通信チップ用アンテナに関する研究 : 電磁波の人体透過特性
• Resistance Oscillations Induced by Direct Current Electromigration
• Miniaturized Capillary Electrophoresis Fabricated on Pyrex Glass Chips Using Deep Dry Etching and Anodic Bonding
• 新しい装置創りから未知なるものの発見
• ULSI高アスペクト比SiO_2エッチング技術の現状と展望
• ナノ構造体を用いた無標識検出
• 表面反応研究のより一層の促進を
• 高密度プラズマによるエッチングプロセス(最新のプラズマプロセス技術)
• Electromigration Characteristics of Cu-Al Precipitate in AlCu Interconnection

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