Localized and ultrahigh-rate etching of silicon wafers using atmospheric-pressure microplasma jets
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概要
著者
-
堀池 靖浩
物質･材料研究機構
-
一木 隆範
東洋大学・工
-
Horiike Yasuhiro
Faculty Of Engineering Toyo University
-
Horiike Yasuhiro
Toshiba Vlsi Research Center
-
Horiike Yasuhiro
Department Of Materials Science The University Of Tokyo
-
Horiike Yasuhiro
Department Of Electrical & Electronics Engineering Tokyo University
-
Horiike Yasuhiro
Department Of Materials Science University Of Tokyo
-
Horiike Yasuhiro
Department Of Electrical Engineering Hiroshima University
-
Horiike Yasuhiro
Department Of Materials Engineering The University Of Tokyo
-
Horiike Yasuhiro
Department Of Electrical And Electronics Engineering Toyo University:department Of Materials Science
-
Horiike Yasuhiro
Toshiba Research And Development Center Integrated Circuit Laboratory
-
Horiike Yasuhiro
Toyo University
-
Horiike Yasuhiro
Department Of Electrical & Electronics Engineering Toyo University
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