藤村 修三 | 東工大
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概要
関連著者
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藤村 修三
一橋大イノベーション研
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藤村 修三
富士通(株)
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藤村 修三
富士通株式会社
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藤村 修三
富士通基礎プロセス開発部
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藤村 修三
東工大
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藤村 修三
東京工業大学
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藤村 修三
東京工業大学大学院イノベーションマネジメント研究科
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村上 浩一
筑波大学 数理物質科学研究科 電子・物理工学専攻
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北島 正弘
金属材料技術研究所
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菊地 純
富士通(株)
著作論文
- イノベーションを創造する人と組織--「シャープ技報」から分析した同社のイノベーションシステム (特集 イノベーションをめぐる組織・産業・政策)
- 研究者のキャリア志向性概念の再検討 : ハイテク産業における研究開発専門職のキャリア志向性に関する日米比較を通じて
- 2I11 日本の研究開発専門職のキャリア志向性の再考(人材問題)
- 1p-T-2 結晶シリコン中の水素分子の検出とその挙動
- 水素原子処理シリコン結晶中の水素分子
- 水素+水蒸気プラズマダウンフローへのNF_3添加によるシリコン表面の自然酸化膜除去
- 2J06 めっきにおける技能形成の要諦(人材問題(2),一般講演,第22回年次学術大会)
- 2E16 車載半導体にみる産業間の技術に対する考え方の相違(国際競争力・産業競争力(3),一般講演,第22回年次学術大会)
- 日本の半導体産業における科学, 技術, 産業の関係と問題点
- FT-IR-ATR,FT-IR-RASを用いたSi自然酸化膜成長過程の観察